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[オンラインセミナー] Zemax OpticStudioとLumerical RCWAの動的連携によるAR導波路の設計と最適化 [Q&A]

このスレッドでは、オンラインセミナー開催前に質問を投稿でき、セミナー開催中に頂いたご質問にお答えしていきます。お気軽にご質問を投稿してください。また、このトピックに関する追加のディスカッションをご覧になりたい場合は、このスレッドを Subscribe(購読)してください。このスレッドは 7 月 27 日までコメントを受け付けています。タイトル:Zemax OpticStudioとLumerical RCWAの動的連携によるAR導波路の設計と最適化日時:2022 年 10 月 19 日(水)14:00-15:00 参加リンク:https://attendee.gotowebinar.com/register/8863856349634544141?source=communityプレゼンタ:アンシス・ジャパン株式会社 シニアアプリケーションエンジニア 蕭 逸華(シャオ イーファ)アブストラクト:AR(Augmented Reality)デバイスの市場はここ数年成長し、そのスピードはますます加速しています。その中で、回折型導波路は最も重要な設計の一つとなっています。本オンラインセミナーでは、導波路の設計と最適化を行うワークフローソリューションを紹介します。このワークフローでは、まず、1次元または2次元のグレーティングをLumericalで設計、解析します。そのグレーティングは、いくつかの定義されたパラメータによって形状が制御されるパラメータ化することができます。光線追跡を行う際に、OpticStudioは自動的にLumerical RCWAをバックグラウンドで呼び出し、グレーティングの電場を解くためのAPIを提供します。Lumericalのパラメータは、このAPIを通じてOpticStudioのUIに表示されます。OpticStudio UIからグレーティングの形状を変更し、Lumericalを実行として新しいデータを自動的に計算する方法を実演します。また、簡単な最適化の例も実演します。 

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