日前使用 Zemax Physic optics propagation 分析雷射通過Axicon 後的強度分布，如下圖我發現輸入光由Gaussian，換成 Top hat，強度分析狀況竟然相同，直覺認為輸入光強度條件改變，應該會影響結果才是，是否我這邊設定有所錯誤導致此結果? Guassion Top hat  

先说明，ZOS 是怎么做优化的：通常会用透镜的一个暂时副本对评价函数进行评估 计算。在评价函数计算结束后，透镜的副本以及任何 对 镜头数据的改变都将 被 舍弃 。因而，在执行 ZPLM操作数 调用的宏 的过程中，镜头数据不能做任何改变。 这些 改变 将不会被保留，并且 可能会妨碍 在 同一评价函数中 ZPLM操作数 之后的操作数 的计算。 OpticStudio将无法 恢复到 ZPLM指定的宏计算之前的镜头状态。 如果 刻意 在后面的 操作数 计算 之前故意使用宏来改变镜头数据，那么应该执行两个宏。 第一个应该按需要修改数据，第二个应该重建原始条件下的数据。两个宏都可以列在评价函数编辑器中， 期间的操作数将在修改后的镜头数据基础上执行 。操作用户界面的宏命令，例如CLOSEWINDOW、 WINL()和 GETT()在此 是无效的。这一限制的原因是 这些命令从用户界面中反映 的 单一系统副本中获取信息。因此，即使 ZPLM宏更新系统副本，用户界面显示的主系统副本也不会被更新。出处： The Optimize Tab (sequential ui mode) > Optimization Overview > User Defined Operands (optimization overview) > Changes Made to the Lens from within the ZPLM Marcro 所以用以上操作数行不通，但是可以使用GETTEXTFILE获得即时的数据然后进行优化。

一般情况下，旋转对称的成像系统，物面法线平行光轴。物点发出光线方向平行光轴，并具有一定孔径角（比如±10°）。但有时在非旋转对称的系统中，如果物点发出的光线（主要方向）与光轴有夹角，比如5°，此时应该怎样设置呢？此时，成像的光线孔径角不再关于光轴对称，比如（-5~15°）。此时，利用了更大孔径角的光线成像，像质可能会变差。

与分析窗口相比，FCGS和FCGT的值更稳定。这在 The Analyze Tab (sequential ui mode) > Image Quality Group > Aberrations (Image Quality Group) > Field Curvature and Distortion 提到：Strictly speaking, the field curvature and distortion plots are only valid for rotationally symmetric systems with plane object and image surfaces. However, OpticStudio uses a generalization of the field curvature and distortion concepts to give reasonable results for some, but not all, non-rotationally symmetric systems. Caution should be used when interpreting these data for non-rotationally symmetric systems or systems with object and/or image surfaces that are not planes.FCGS和FCGT对非旋转对称系统有更合理的结果。

方法一：保存两组操作数组合，然后每次要用的时候载入。方法二：用GOTO加上ENDX进行切换。相关定义可以查看：The Optimize Tab (sequential ui mode) > Automatic Optimization Group > Merit Function Editor (automatic optimization group) > Optimization Operands by Category > Merit Function Control Operands 仔细观看GOTO 的数值设置另外也推荐使用BLNK方便快速定位。

原文是： How to save detector ray data as a source file | Zemax Community总结来说，可以使用Save Detector Data 或者在追迹光线的时候保存加探测器序号以及“-“的dat文件。关于source file的使用可以参考：SPEOS and Zemax Source file converter – Knowledgebase

在Help中可以看到以下章節。The Setup Tab > System Group (the Setup Tab) > System Explorer > Polarization (System Explorer) > Defining the Initial Polarization 可視化之後看起來如下。黑色是光線方向，藍色是p偏振、紅色是s偏振。 相關的Python code附件在這篇文章中供參考。

如果一台计算机使用多个CPU进行计算，系统并不总是需要使用所有的CPU.下面的图片显示了一个多CPU/线程工作方式的例子。有些计算只由一个CPU/线程（母线程）执行。 在这段时间里，CPU的利用率很低。有些部分需要多个CPU/线程（平行区域）。 在这段时间里，CPU的利用率很高。如果在OpticStudio中为计算配置了N-cores，OpticStudio不会就获得N-cores。这是因为操作系统决定了应用程序可以使用多少个内核。OpticStudio将根据配置从Windows请求资源。在大多数情况下，OpticStudio并不能获得所有的资源。在计算方面，更多的内核并不意味着更快的计算。这取决于你在做什么样的计算。 如果计算不需要这么多的资源，而且核心/线程的数量超过了需要，那么将数据分配给每个线程的时间会更长。您可以设置OpticStudio在计算过程中可以使用的内核数量。 然而，如上所述，你将只得到所要求的一部分资源。有一个平行计算的理论叫做阿姆达尔定律。X轴代表处理器的数量。Y轴代表加速。不同的颜色代表方案/计算的视差部分的显示。可以看出，使用2到32个内核可以提高速度，但使用更多的内核并不能提高很多速度。就实际计算而言，它更为复杂。可能影响速度的因素有：核心数量、光学系统（有多少种计算可以并行进行）、OpticStudio可以获得的资源数量，由操作系统决定硬件规格等。

有沒有一種簡單的方法可以在非序列中圍繞共同的旋轉中心以任何所需的角度旋轉多個（或組合的）物件？ 

在使用由文件定义的序列表面或非序列物体时，例如序列模式 user defined surface, 或非序列模式的例如 Tabulated Faceted Toroid 物体时，如果需要更新所加载的文件，在ZPL macro中如何设置。

感谢大家长期以来对 Zemax 的关注与支持！我们将在以下时间开展本次的网络研讨会，您可以通过以下链接进行本研讨会的注册。并且，您可以在我们全新的 Zemax 社区论坛上，事先或者结束后针对本次研讨会的内容对演讲者进行提问，也请自由留言进行交流。  时间:2022年5月25日(周三) 14:00-15:00 参与链接: https://attendee.gotowebinar.com/register/1819028061812850699?source=community 内容摘要： 在如今光学系统设计中，热效应和结构形变对于光学系统性能有着很大的影响。在本次研讨会中，我们将以全面介绍如何使用 OpticStudio 设计光学系统、并随后使用 OpticsBuilder 进行机械元件建模，最后结合 STAR 模块整合 FEA 分析数据应用于光学系统进行综合性能评价，作为如今 Zemax 旗下产品的完整应用流程。同时，我们也将使用高能激光系统为例，包含实际的文件做出基础的演示操作，帮助您更加直观地了解该操作流程中的详细细节。 需要进行热效应和结构形变分析的复杂光学系统性能整体分析，通常都是光学设计与分析领域的痛点，本次研讨会将为您带来全新的解决方案 - 基于 OpticStudio 的 STAR 模块。该模块于 2021 年 5 月载入至 OpticStudio 21.2 版本中，可以将分析得到的 FEA 数据应用至光学系统中的各元件表面上，拟合后对于系统进行整体的光学性能分析，无缝完成所有所需操作。 演示者: 高级应用工程师 胡皓胜，Ansys Zemax 中国

为什么非primary波长的波前差在单色和复色情况下有时候会发生变化

使用ZPL进行优化除了能感受到速度慢之外，还有一个迷惑点：当一个系统优化到一定程度后，MF的值不变了。比如我想写个for loop 每次执行OPTIMIZE 10， (10 个循环的optimization)。是不是由于在10个循环没有找到解后，它又回到了起始的状况，这样使得优化器在MACRO中永远没法找到解？ 

如果想要在非序列使用一個圓柱形的探測器，要如何產生?

无焦系统中已开启像空间afocal选项：  System Exploerer> Aperture > Afocal Image Space如何查看像面上的RMS光斑尺寸？

请叫我搬运工，这次搬了一篇Mark的文章

請問要如何設定以下尺寸的Aperture在UDA的format下，謝謝。

本範例將會示範在Zemax OpticStudio模擬一個初步簡易的投射車燈，主要目的在於介紹各種模擬中使用者可能會用到的功能，包含Lens Catalog、光源建模、光源頻譜、拋物面建模、設置探測器、色彩分析以及照度分析。簡介本文章介紹如何在Zemax OpticStudio中模擬投射式車燈，主要分為以下章節：    使用透鏡資料庫 (Lens Catalog)    建立拋物面物件    建立鎢絲光源，設定黑體輻射頻譜    建立擋板物件    設定探測器    追跡並檢視結果我們的最終架構將如下： 建立橢圓反射面橢圓反射面可以把其中一個焦點的光線反射到另一個焦點。 我們透過Standard Surface來建立。 參數設定如下：Material：MIRRORRadius：30.165Conic：-0.712Maximum Aper：50 

簡介光學低通濾波器 (optical low-pass filter, OLPF) 廣泛應用於高階成像系統中，通常放置在CCD或COMS的前方。主要的功能是過濾影像中特定的空間頻率，避免因為空間頻率跟感測器取樣頻率過於接近時，因為發生混疊 (Aliasing) 而造成摩爾紋 (Moiré)。解決這種問題可能的做法有好幾種，目前最為符合量產可行性的常見作法之一就是利用雙折射晶體把光路分裂，透過控制分裂距離，來消除特定的空間頻率。經過光學低通濾波器處理系統，反應在MTF上的效果就是特定頻率的對比會下降，如同我們使用IR-CUT削去紅色波長一樣，OLPF也可以過濾不希望出現的空間頻率。建立雙折射晶體這邊我們打開內建範例： \Documents\Zemax\Samples\Sequential\Objectives\Double Gauss 28 degree field.zmx我們將會在像面 (IMAGE) 之前建立光學低通濾波器的結構，示意圖如下： 要建立這個結構，我們在LDE中新增五個面，並設定如下： Surface 12: Birefringent InThickness: 0.1Material: CALCITEY-cosine: 1Z-cosine: 1Surface 13: Birefringent OutThickness: 0.1Surfa

簡介在本知識庫中的 “如何進行序列模式公差分析” 這篇文章中，我們簡單說明了RSS的計算方式如下：在所有公差單獨計算之後，OpticStudio可以計算各種不同的統計資料，其中最重要的就是 "Estimated Change" 以及 “Estimated Performance” (本範例中為Estimated RMS Wavefront)。Zemax使用RSS (Root Sum Square) 方法來計算品質的Estimated Change。對於每一個公差操作數，相對於原始設計的評價標準改變量之計算方法是最大與最小公差的評價標準改變各自平方，然後再取平均。最大與最小值之所以取平均是因為它們不可能同時發生，如果相加的話會導致過分悲觀的預測。我們將用公差統計中的堆疊問題 (Stack Up) 說明 RSS 的計算。堆疊問題問題的描述是這樣的：想像我們有5個木板要疊在一起，並需要估計疊在一起的總厚度。已知每一片木板的厚度都有些許不同 (現實世界總是會有誤差！)，每片木板的厚度大約在25 mm加減0.1 mm的範圍內隨機分布。假設這些木板的厚度機率是常態分布，中心是25 mm，機率最大，25.1 mm跟24.9 mm的機率則是e^-2，剛好會是距離中心兩倍標準差 (sigma) 的位置，畫出來如下圖。 好，所以現在問題是，如果我們疊了5塊木板以後，厚度的機率分布會變成怎樣？ 

本文章旨在說明Ray Database 分析結果中出現的相關名詞與標示，包含Ray、Segment、Path、Prnt、Levl、In、Hit等等。首先我們設定一個簡單的系統以便說明，這個系統設定如下： 使用Source Ray，並設定#Layout Rays以及#Analysis Rays。這會讓系統僅追跡一條光線，方便我們觀察光線分裂 (Ray Split) 與線段 (Segment) 的關係。物件2與3是兩片BK7平板。Minimum Relative Ray Intensity = 0.005，當光線能量相對於從光源出發時的比例低於此值時，將會停止追跡，此時該光線能量會計入Energy Lost (Threshold) 並顯示在Ray Trace視窗的下方。打開3D Layout並確認勾選 “Use Polarization” 、 “Split NSC Rays” 以及 “Fletch Rays” ，Layout上的追跡結果如下圖 打開Analyze > Ray Database Viewer，打開設定對話框，取消勾選XYZ，勾選Path  

Zemax論壇的用戶大家好,這次的Ask an Engineer活動會有些改變。本月的活動是挑戰使用DLL創建用戶定義的表面，詳細活動請參考下方連結，中文英文日文都有支持，如果您有興趣，請務必前來挑戰！ Zemax首席工程師Sandrine會在活動時間內，線上為大家答疑解惑。 活動頁面：Ask an Engineer: Making a Surface DLL (下方回覆區有本次活動中文說明) 

FAQ:为什么在像面之前设置坐标间断之后，POP的分析结果没有变化

請問Zemax中是否有surface可以將高斯聚焦光束改為環形聚焦光束，如下圖所示 

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