当使用hammer 优化时，防止电脑死机，计算机的核保留了1~2个；但是运行了2天后，电脑还是无可避免的死机了。想请教 在使用hammer 优化时，如何保存中间状态，避免长时间运行后电脑死机而 颗粒无收？  [Mod edit: Moved to Chinese language forum (授权与安装 | Zemax Community)]

放一张JWST里面的星芒细节图镇楼。出自：First Images from the James Webb Space Telescope | NASA 

是否有任何方式可以查看分析檢測器上光源波長的輻照度峰值。 意思是我需要一個可以檢視哪個波長的光源（從某個表面反射）最好地聚焦在探測器的表面（在給定的 Z 位置）。目前的情況是探測器只包含有關功率的資訊，意思是它只提供有關總（所有波長）輻照度的資料。如下圖所示。光源頻譜 

请教一下，视场有渐晕的情况下，zemax在公差分析时会使用 user design 作为视场设置选项，比如我设置了5个视场，并勾选seperate field，公差结果可否输出一个最终的MTF值和这5个视场的MTF值？我想知道最终的MTF值是如何得出的，是将五个视场按照一定权重计算吗？怎么分配权重的？我试了下五个视场直接求平均值好像与结果数值不符。

如果图像结果的模拟结果存在一些不理想的情况，例如图片的尺寸未能铺满显示屏幕或者大于显示区域不能完全展示，又或者展示结果中存在一些像斑的单方向延展，这些情况通常情况下是由于什么原因引起的？该如何进行故障排查或者规避？

Hello,             类似这样的知识库文章找不到了该怎么办？

此文为翻译帖，原文以及附件参考：リレーコンデンサーレンズの設計例について | Zemax Community中继聚光镜系统是照明光学中的基本光学系统。 它的特点是，即使在光源亮度不均匀的情况下，也能实现均匀照明，而且没有能量损失。中继聚光镜系统具有出色的功能。 中继聚光镜光学元件使用两个透镜。第一个镜头被称为聚光镜。它的目的是收集光线，它被设计成在第二个镜头上方形成一个光源的图像。第二个镜头被称为中继镜头，其目的是将第一个镜头的图像引导到受照面。 亮度不均匀的光源是，例如，灯丝和放电管。这些光源的亮度不均匀，但光的分布是均匀的。 一个放置在离光源一定距离的聚光镜被均匀地照亮。通过用中继透镜投射均匀的表面，可以看到被照射的表面也变得均匀照亮。通过将所有入射到聚光镜上的能量转移到中继透镜中来防止能量损失。 最终的镜头数据和布局图如下所示。 最左边的镜头是光源。

如题，会从公式和数据两方面分析

在非序列模式中，如何将探测器上的结果设置为优化目标来优化自由曲面镜。比如可以将圆形光斑优化为矩形均匀光斑吗？ 

摘要：這篇文章示範了如何輸入量測資料到Zemax OpticStudio中的Grid Sag，表面起伏資料應為Z座標的sag。原文作者：永田信一さん原文發布時間：Feb 7, 2009假設我們有如下資料 表面起伏資料的定義如下。第一行，由7個數字表示。第1, 2個數字，代表X與Y方向的資料數量，資料形式為整數。第3, 4個數字，代表X與Y方向的資料間距，資料形式為浮點數。第5個數字，代表資料的單位，0表示單位是mm。第6, 7個數字，代表整體資料點的偏心量，資料形式為浮點數。第二之後的資料格式如下，ｚ　ｄｚ/ｄｘ　ｄｚ/ｄｙ　ｄ2ｚ/ｄｘｄｙ每行都是如上的資料，資料形式為浮點數。ｚ代表sag值。ｄｚ/ｄｘ　ｄｚ/ｄｙ代表X與Y方向的微分值。ｄ2ｚ/ｄｘｄｙ代表交叉微分值。資料最少需要5x5個點。在Grid Sag面的設定中，若指定使用Bicubic-spline內插的情況，為了使資料點之間sag的內插結果平滑，必須要輸入微分值。但是，若設定所有的微分值為0，或是該資料留白不輸入，Zemax會自訂使用有限差分法 (Finite Difference Method) 來計算微分值。資料的紀錄順序如下：1.    從的面的左上角，也就是Xmin、Ymax開始。2.    下一個輸入的資料是該點的右邊一個值 (就是X方向加一個間隔)。3.    第一行結束後，往地第二行左邊開頭繼續。4.    填滿時，最後一個數字應為Xmax、YminSag資料的基準面不只是平面，也可以是球面、圓錐曲面或是非球面。檔案的副檔名方面，若是在序列模式，應為 “.DAT”，若是在非序列模式，應為 “.

波前的計算當我們說波前時，事實上通常是指波前 “差”，或是光程差，指的是同一件事。OpticStudio預設使用出瞳作為波前差的計算參考。因此，當我們要計算一條光線的OPD時，此光線會從物面出發後一路追跡穿過光學系統，最終到達像面後，在循原方向後退追跡到 “參考球面”。此參考球面的球心是主光線與像面的交點，半徑是主光線與像面交點到主光線與出瞳面的焦點。然後我們就計算這條光線的總光程，並扣去主光線的光程 (因此主光線的光程差永遠為零，因為他本身就是零的參考點)。要驗證這個敘述，讓我們打開這個內建範例： \Documents\Zemax\Samples\Sequential\Objectives\Double Gauss 28 degree field.ZMX。讓我們在像面之前新增兩個面，第一個面的厚度給予設定求解 = Pupil Position，第二個面給予設定求解 = Pickup，設定為前一個面的厚度乘以-1。並指定第二個面的Radius為求解Pickup，一樣是前一個面的厚度乘以-1。第二個面就是我們所說的參考球面。目前為止設定如下：  然後我們在Merit Function中使用OPTH這個操作數驗證視場1、波長編號2，經過光瞳Py = -1位置的光線以及主光線，兩條光線在參考球面上的光程差。注意我除以波長編號2的波長 (wavelength)，因此單位會是波長 (waves)。下面可以看到我們算出來是0.272387 (須乘以一千倍)。

這邊說明在POP視窗中選擇Prop Report的時候，在每個surface上都會顯示的orientation matrix是什麼意思。這個orientation主要標示了如何該surface的局域座標轉換到POP資料顯示的平面上。注意POP的資料永遠都是在一個與chief ray垂直的平面上，這是為什麼需要這個轉換的原因。 長話短多，計算方式如下以下定義變數x(n): 單位向量，代表傳播經過第n面之後的POP平面上的X軸y(n): 單位向量，代表傳播經過第n面之後的POP平面上的Y軸k(n): 單位向量，代表傳播經過第n面之後的chief rayN(n): 單位向量，代表第n面上chief ray位置的法向量s(n): 單位向量，這個只是中間計算用，沒有用在最後的POP平面資料上 在第0面上，x(n) 與 y(n) 計算如下s(0) = normalize( (0,1,0) cross k(0) )y(0) = normalize( k(0) cross s(0) )x(0) = y(0) cross k(0) 在除了第 0 面的其他面上，x(n) 與 y(n) 計算如下s(n) = normalize( y(n-1) cross N(n) )y(n) = normalize( s(n) cross k(n) )x(n) = y(n) cross k(n) 最終看到的旋轉矩陣就是把x, y, k當作第1,2,3直行的元素所組成的。注意x,y,k的值是相對於該面的局域座標。如果要計算傳播經過第n面的之前的orientation matrix，要改用x(n-1), y(n-1), k(n-1)，但是座標要轉換到相對於第n

Zemax OpticStudio中新增的Speos导出工具生成的OPTDistortion报告分别代表什么呢？ 

RWCE的出处：The Optimize Tab (sequential ui mode) > Automatic Optimization Group > Merit Function Editor (automatic optimization group) > Optimization Operands by Category > Aberrations (optimization operands by category)在使用RWCE时，有几件事需要注意。(1) 臂的数量总是环数的两倍。换句话说，对应的是四环八臂的高斯求积法生成的评价函数。(2) 只能指定一个视场和波长。(3) 根据帮助文件，计算结果只对无晕染的圆形瞳孔准确。

我現在想要模擬一個投影機系統，請問有辦法在照明模式中，建立底片看成像效果。

Zernike standard sag 表面的 Norm radius 如何理解？ 如果在已经定义好的表面基础上更改了Norm radius，系数可以通过更改再对应到原来的表面吗？ 

OpticsAcademy上架了全新的OB课程。通过本课程，OpticsBuilder用户可以学习整机设计、分析和验证光学机械系统所需的光学基本概念。课程同时描述了Zemax光线追迹引擎如何计算和测量光学性能，如何将Zemax OpticStudio的转换工作流程应用于OpticsBuilder插件的CAD环境。您可以从中了解如何在示例中使用OpticsBuilder的大量工具，以及如何使用OpticsBuilder的光学图纸功能。可以在以下链接中找到课程：Designing Optomechanical systems with Zemax OpticsBuilder有任何问题，请给我们support@zemax.com发邮件~ 或者在本贴中回复。

在设计投影系统的时候，我们通常会将整体系统分为两个部分进行设计：照明系统和投影系统。那么想请问如何去建立二者间的位置和匹配关系才能符合整体投影系统设计的需求？

想要模擬太陽光被 Fresnel lens聚焦的結果，為了做到這一點，我需要創建類似太陽的光源。請問哪個光源在非序列模式下與太陽比較相似？

了解最新版本的 Zemax 软件、OpticStudio22.2 和 OpticsBuilder 22.2 中的新增功能。 社区论坛接受预先和后续问题。 请随时发表评论。 日期：2022年6月15日（星期三）上午10:30-11:30注册链接：https://v.ansys.com.cn/live/VW3RjIQE摘要OpticStudio22.2 扩展了广角镜头的增强光线瞄准功能，并添加了支持的孔径和视场类型。 此外，还正式引入了光线瞄准向导，以支持光线瞄准设置。 为了增强外部协作，它支持与 Creo 7 的动态链接，包括为Ansys Speos导出设计数据的功能。在使用基于订阅的 OpticStudio 22.2 专业版或旗舰版时，具有 STAR 模块许可证的用户现在可使用性能分析这项功能，能够逐个表面地观察温度变化和变形对光学系统性能的影响。

本文介绍车载HUD的设计示例。 

本文介绍了用于热成像和其他应用的红外光学系统设计实例。 

如题，如果拿到某个光学元件的 CAD 文件，理论上是只能在 OpticStudio 非序列模式中作为 CAD 物体进行导入的。请问如何转换成序列模式下的表面类型，然后再结合序列模式的分析功能去进行后续分析、控制和优化呢？

 欢迎大家的到来~🥂😊之前我们已经认识了STAR模块（Zemax STAR模块的自白---【我是一个分析温度、形变对光学系统影响的工具】 | Zemax Community），对于整个工作流来讲，OpticStudio，STAR模块与其他Ansys工具的集成可以使工作流程得以简化且保证了精度。对STAR感兴趣的盆友可以点击如下链接加入STAR User Group，相关STAR的信息都会更新在其中STAR User Community我们以高能激光的案例再来说明下这个工作流：光学系统的设计（分析、优化、公差分析等）：Ansys Zemax OpticStudio

在公差分析中，如果尝试使用公差脚本载入某个已保存的评价函数时，如果在 Tolerancing 中点击 Check 按钮，对应返回的值将与在 MFE 中直接返回的总 MF 值不相同，请问这是什么原因造成的？如下图所示：