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Trick: TOLR的另类用途-如何添加一个需要先经过优化才能得到的参数作为操作数添加到Merit function editor 中

TOLR的用途 TOLR是优化操作数,与公差敏感度分析有关,目的是返回公差敏感度分析的统计结果,并将这个结果加入到优化过程中。 但实际上,包含了compensation过程的公差分析其实就是不同扰动条件下的优化过程。 所以TOLR也可以用做一些需要事先经过优化才能得到的参数,当作优化操作数来用。 TOLR的使用要添加什么 在这一部分讨论的TOLR的使用,与公差没有关系,只要用TOLR背后的优化过程,因此会包含自定义公差脚本部分(因为前一个优化和主要的优化所使用的merit function不同), Tolerancing script中的内容是定义如何补偿及优化的。 这里主要用到: CLEARCOMP (remove variables) COMP (set veriables) LOADMERIT (choose merit function) OPTIMIZE 案例及比较 在Analyze> Prescription Data> General Dataz 中汇报的 back focus length 是paraxial data,没有相应的操作数,这里利用TOLR来返回这一数据。 准备: 前一个优化要用的评价函数十分简单, 建立并保存 .MF 文件 。第一个操作数是用来评价BFL的计算,目标是使中心视场近轴光线在像面高度为0。第二个操作数用来计算厚度值的。分别保存为 merit1.mf merit2.mf 打开Tolerance> Tolerancing Set-up> Mode: Sensitivity Criterion> Criterion: User Script/ Script: New 新建一个TSC 文件, 并保存 在选好的Tolerancing界面点击SAVE,保存为 TOLR006.TOP, 这个文件名的format必须符合TOLRXXX的形式。 到这里设置已完成可以直接使用, 比较得出返回的值在各个分析中一致

Distortion Focal Length的定義 (ZPL範例)

本文章介紹了: Field Curvature/Distortion分析的文字區塊中Distortion Focal Length的定義 使用Single Ray Trace驗證 介紹用ZPL中的PLOT、RAYTRACE指令 用ZPL簡單的驗證Distortion Focal Length的定義文章發布時間:September 23, 2015 系統分析功能中的Distortion Focal Length 當我們在OpticStudio中打開Field Curvature/Distortion分析功能時,會在文字區塊中看到這個參數,有些使用者會好奇這是什麼參數,為什麼他與狀態列上的有效焦距EFFL不同。請開啟範例檔:\Zemax\Samples\Sequential\Objectives\Double Gauss 28 degree field.zmx請開啟Analyze Ribbon > Aberration > Field Curvature and Distortion,並記得在Settings中設定使用主波長2,也就是0.587 um。(這是為了與之後我們撰寫ZPL時使用相同的波長驗證)點擊一下視窗下方的Text標籤,並找到如下的Distortion focal length參數。 可以很輕易的發現他與整個主視窗下方的狀態列上的EFFL數值不同。 什麼是Distortion Focal Length 要瞭解Distortion Focal Length,首先我們先查看Help檔案。 根據上面反白的文字,系統會先追跡小視場,然後其他較大視場的入射光線再根據Yref=f*TAN(theta)放大。其中f就是在小視場下計算的,我們可以用追跡工具Single Ray Trace簡單的驗證: (請注意波長為2) 由於此範例最大視場為14度,因此Hy = 0.0001代表0.0014度,Px = Py = 0代表chief ray,可看到第7個面的像高為2.4271401744E-003。我們把公式轉換為f = Yref / TAN(theta) = 2.4271401744E-003 / TAN(0.0014 degree) = 99.3320630可發現與Field Curvature/Distortion分析功能文字區塊所顯示的數字一致。 Zemax編

请问如何让序列模式下的元件和非序列模式下的光源进行互动?

大家好, 我目前在尝试复现和《Flat metaform near-eye visor》这篇文献的工作类似的光学系统。论文中的反射式超透镜我改成了透射式超透镜,参数也做了一些修改。如果全部在序列模式下建模,得到的效果大概如图所示。 探索了一段时间后发现,用序列模式下的“网格相位”去定义超透镜比较合理,用非序列模式下的探测器去探测成像效果会更好。(这个结论我不确定是否正确,我邮件询问过文章作者,他说是在非序列模式下建模模拟的,但作者找不到原来的文件了。我在非序列模式下确实没有找到可以模拟超透镜的元件,所以目前的想法是在序列模式下添加两个非序列元件,分别是“矩形光源”和“矩形探测器”) 看了一下用户手册,发现序列模式下的元件和非序列模式下的光源与探测器作用似乎很复杂。简单来说就是非序列模式下的“矩形光源”并不会与序列模式下的“网格相位”相互作用,尝试对照用户手册中去设置输入端与输出端,也没有得到很好的效果。 想要询问大家的问题是, ①是否可以在非序列模式下建立一个像序列模式下“网格相位”一样的元件呢?这样的话整个光学系统都可以在非序列模式下进行模拟。我调研了一下似乎可以用网格矢高表面,但老是会遇到问题。 ②如果①不可行,那像我目前在序列模式下添加非序列元件,要怎样才能让两种元件产生交互呢? 附上我目前做的文件以及超透镜的相位数据文件。 非常感谢各位的帮助!

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