方法一：保存两组操作数组合，然后每次要用的时候载入。方法二：用GOTO加上ENDX进行切换。相关定义可以查看：The Optimize Tab (sequential ui mode) > Automatic Optimization Group > Merit Function Editor (automatic optimization group) > Optimization Operands by Category > Merit Function Control Operands 仔细观看GOTO 的数值设置另外也推荐使用BLNK方便快速定位。 

原文是： How to save detector ray data as a source file | Zemax Community总结来说，可以使用Save Detector Data 或者在追迹光线的时候保存加探测器序号以及“-“的dat文件。关于source file的使用可以参考：SPEOS and Zemax Source file converter – Knowledgebase

在Help中可以看到以下章節。The Setup Tab > System Group (the Setup Tab) > System Explorer > Polarization (System Explorer) > Defining the Initial Polarization 可視化之後看起來如下。黑色是光線方向，藍色是p偏振、紅色是s偏振。 相關的Python code附件在這篇文章中供參考。

如果一台计算机使用多个CPU进行计算，系统并不总是需要使用所有的CPU.下面的图片显示了一个多CPU/线程工作方式的例子。有些计算只由一个CPU/线程（母线程）执行。 在这段时间里，CPU的利用率很低。有些部分需要多个CPU/线程（平行区域）。 在这段时间里，CPU的利用率很高。如果在OpticStudio中为计算配置了N-cores，OpticStudio不会就获得N-cores。这是因为操作系统决定了应用程序可以使用多少个内核。OpticStudio将根据配置从Windows请求资源。在大多数情况下，OpticStudio并不能获得所有的资源。在计算方面，更多的内核并不意味着更快的计算。这取决于你在做什么样的计算。 如果计算不需要这么多的资源，而且核心/线程的数量超过了需要，那么将数据分配给每个线程的时间会更长。您可以设置OpticStudio在计算过程中可以使用的内核数量。 然而，如上所述，你将只得到所要求的一部分资源。有一个平行计算的理论叫做阿姆达尔定律。X轴代表处理器的数量。Y轴代表加速。不同的颜色代表方案/计算的视差部分的显示。可以看出，使用2到32个内核可以提高速度，但使用更多的内核并不能提高很多速度。就实际计算而言，它更为复杂。可能影响速度的因素有：核心数量、光学系统（有多少种计算可以并行进行）、OpticStudio可以获得的资源数量，由操作系统决定硬件规格等。以上只是可能影响速度的一般因素。 

有沒有一種簡單的方法可以在非序列中圍繞共同的旋轉中心以任何所需的角度旋轉多個（或組合的）物件？ 

在使用由文件定义的序列表面或非序列物体时，例如序列模式 user defined surface, 或非序列模式的例如 Tabulated Faceted Toroid 物体时，如果需要更新所加载的文件，在ZPL macro中如何设置。

为什么非primary波长的波前差在单色和复色情况下有时候会发生变化

使用ZPL进行优化除了能感受到速度慢之外，还有一个迷惑点：当一个系统优化到一定程度后，MF的值不变了。比如我想写个for loop 每次执行OPTIMIZE 10， (10 个循环的optimization)。是不是由于在10个循环没有找到解后，它又回到了起始的状况，这样使得优化器在MACRO中永远没法找到解？ 

如果想要在非序列使用一個圓柱形的探測器，要如何產生?

无焦系统中已开启像空间afocal选项：  System Exploerer> Aperture > Afocal Image Space如何查看像面上的RMS光斑尺寸？

请叫我搬运工，这次搬了一篇Mark的文章

請問要如何設定以下尺寸的Aperture在UDA的format下，謝謝。

本範例將會示範在Zemax OpticStudio模擬一個初步簡易的投射車燈，主要目的在於介紹各種模擬中使用者可能會用到的功能，包含Lens Catalog、光源建模、光源頻譜、拋物面建模、設置探測器、色彩分析以及照度分析。簡介本文章介紹如何在Zemax OpticStudio中模擬投射式車燈，主要分為以下章節：    使用透鏡資料庫 (Lens Catalog)    建立拋物面物件    建立鎢絲光源，設定黑體輻射頻譜    建立擋板物件    設定探測器    追跡並檢視結果我們的最終架構將如下： 建立橢圓反射面橢圓反射面可以把其中一個焦點的光線反射到另一個焦點。 我們透過Standard Surface來建立。 參數設定如下：Material：MIRRORRadius：30.165Conic：-0.712Maximum Aper：50 建立光源我們將建立帶有黑體輻射頻譜的鎢絲光源，首先是光源的外型，新增物件定設定如下：Object 2: Source FilamentX Position：3Z Position：16.126Tilt About Y：-90Layout Rays：100Analysis Rays：2E7Length：5Radius：0.6Turns：8接下來點一下 NSCE 上灰色的 Object Properties選擇 Source 並設定黑體輻射頻譜如下圖：Source Color: Black Body SpectrumTemp (K): 5000Spectrum: 7、Wavelength From 0.44 To 0.64 備註：    OpticStudio 內建許多常見的頻譜模型，例如黑體輻射、LED、D65 標準白光等    也可以根據三色刺激值、色座標、sRGB 等資訊模擬頻譜    有需要也可以使用純文字文件夾自行定義 備註2：想要確認頻譜的時候，可以到Libraries > Source Spectrum Plot，輸入與剛剛一樣的頻譜設定   如所見到的，Source Spectrum Plot 用繪圖方式讓你瞭解剛剛的光源頻譜是如何設定的，這是個很方便的工具。你可以試著改變參數看看，如下圖：現在回到3D Layout設定，設定Color Rays: Wavelength，可以看到如下：  備

簡介光學低通濾波器 (optical low-pass filter, OLPF) 廣泛應用於高階成像系統中，通常放置在CCD或COMS的前方。主要的功能是過濾影像中特定的空間頻率，避免因為空間頻率跟感測器取樣頻率過於接近時，因為發生混疊 (Aliasing) 而造成摩爾紋 (Moiré)。解決這種問題可能的做法有好幾種，目前最為符合量產可行性的常見作法之一就是利用雙折射晶體把光路分裂，透過控制分裂距離，來消除特定的空間頻率。經過光學低通濾波器處理系統，反應在MTF上的效果就是特定頻率的對比會下降，如同我們使用IR-CUT削去紅色波長一樣，OLPF也可以過濾不希望出現的空間頻率。建立雙折射晶體這邊我們打開內建範例： \Documents\Zemax\Samples\Sequential\Objectives\Double Gauss 28 degree field.zmx我們將會在像面 (IMAGE) 之前建立光學低通濾波器的結構，示意圖如下： 要建立這個結構，我們在LDE中新增五個面，並設定如下： Surface 12: Birefringent InThickness: 0.1Material: CALCITEY-cosine: 1Z-cosine: 1Surface 13: Birefringent OutThickness: 0.1Surface 14: Jones MatrixThickness: 0.1A (real, image) = (1, 1)B (real, image) = (1, -1)C (real, image) = (1, -1)D (real, image) = (1, 1)Surface 15: Birefringent InThickness: 0.1X-cosine: 1Z-cosine: 1Surface 16: Birefringent OutThickness: 0.1由於在像面之前加上幾片玻璃，我們需要重新對焦，因此這裡打開Quick Adjust，調整透鏡最後一個面的厚度，如下： 最後打開多重組態編輯器，並設定如下。 由於在序列模式中我們無法讓光線分裂，因此要模擬雙折射分裂，必須使用多重組態來模擬。每個雙折射晶體都會依據偏振方向分裂為兩個光路，兩個雙折射晶體共會有4個組合，關於雙折射晶體的設定與模擬方式請參考Help文

簡介在本知識庫中的 “如何進行序列模式公差分析” 這篇文章中，我們簡單說明了RSS的計算方式如下：在所有公差單獨計算之後，OpticStudio可以計算各種不同的統計資料，其中最重要的就是 "Estimated Change" 以及 “Estimated Performance” (本範例中為Estimated RMS Wavefront)。Zemax使用RSS (Root Sum Square) 方法來計算品質的Estimated Change。對於每一個公差操作數，相對於原始設計的評價標準改變量之計算方法是最大與最小公差的評價標準改變各自平方，然後再取平均。最大與最小值之所以取平均是因為它們不可能同時發生，如果相加的話會導致過分悲觀的預測。我們將用公差統計中的堆疊問題 (Stack Up) 說明 RSS 的計算。堆疊問題問題的描述是這樣的：想像我們有5個木板要疊在一起，並需要估計疊在一起的總厚度。已知每一片木板的厚度都有些許不同 (現實世界總是會有誤差！)，每片木板的厚度大約在25 mm加減0.1 mm的範圍內隨機分布。假設這些木板的厚度機率是常態分布，中心是25 mm，機率最大，25.1 mm跟24.9 mm的機率則是e^-2，剛好會是距離中心兩倍標準差 (sigma) 的位置，畫出來如下圖。 好，所以現在問題是，如果我們疊了5塊木板以後，厚度的機率分布會變成怎樣？ 答案是125 mm加減0.224  mm。並且也會是常態分佈。以125作為中心，125.224與124.776的位置發生機率恰好是e^-2。換句話說，整個系統的總厚度：1. 也是常態分佈。2. 常態分佈中心剛好是每塊木板的各自機率分佈的中心的總合：5+5+5+5+5=125。3. 整個系統常態分佈機率為e^-2的地方，會是每塊木板各自常態分佈為e^-2時的偏差值 (deviation) 各自平方後、再加總、再開根號，也就是所謂的Root Sum Square (RSS)，你可以在Excel中輸入這右邊這串計算來驗證：sqrt(0.1^2+0.1^2+0.1^2+0.1^2+0.1^2)。答案正是0.224。詳細的證明可以參考Wiki的說明：https://en.wikipedia.org/wiki/Sum_of_normally_distributed_random_variables解讀與假設看

本文章旨在說明Ray Database 分析結果中出現的相關名詞與標示，包含Ray、Segment、Path、Prnt、Levl、In、Hit等等。首先我們設定一個簡單的系統以便說明，這個系統設定如下： 使用Source Ray，並設定#Layout Rays以及#Analysis Rays。這會讓系統僅追跡一條光線，方便我們觀察光線分裂 (Ray Split) 與線段 (Segment) 的關係。物件2與3是兩片BK7平板。Minimum Relative Ray Intensity = 0.005，當光線能量相對於從光源出發時的比例低於此值時，將會停止追跡，此時該光線能量會計入Energy Lost (Threshold) 並顯示在Ray Trace視窗的下方。打開3D Layout並確認勾選 “Use Polarization” 、 “Split NSC Rays” 以及 “Fletch Rays” ，Layout上的追跡結果如下圖 打開Analyze > Ray Database Viewer，打開設定對話框，取消勾選XYZ，勾選Path  設定後點選OK，可以看到如下資訊 表中列出Ray 1在系統分裂後的線段 (Segment) 詳細資訊，Seg# 欄位代表線段編號，光源本身代表Seg# = 0，每一次光線與物件交錯後若有反射、折射、繞射、散射等行為，即產生新的線段，表中線段編號如下 從Ray Database Viewer的報告中可以看到，此光線追跡後共產生16個線段 (Segment)，7個分支 (Branch)，分支的意思是 “光線從光源追跡到停止為止” 算一個分支，不同的分支可能會包含同樣的中間線段，但最後一個線段一定是不同的。舉例來說，上圖中的分支共有以下17個：Branch1: 0 > 1 > 2 > 3 > 4 > 5Branch2: 0 > 1 > 2 > 3 > 4 > 6 > 7Branch3: 0 > 1 > 2 > 3 > 8 > 9 > 10Branch4: 0 > 1 > 2 > 3 > 8 > 11Branch5: 0 > 1 > 2 > 12 > 13Branch6

FAQ:为什么在像面之前设置坐标间断之后，POP的分析结果没有变化

請問Zemax中是否有surface可以將高斯聚焦光束改為環形聚焦光束，如下圖所示 

 Move content to Code Exchange section.

感觉用来做Demo还挺炫的

先上链接：Quantifying Veiling Glare – Knowledgebase (zemax.com)推荐这篇文章不仅仅是因为它的应用。为了实现这样的功能，系统使用了混合模式的散射功能，而且这个混合模式是使用convert to NSC group工具实现的，最后在几何MTF中进行了散射效应的分析。背后的分析理念也值得参考借鉴。

Extended polynomials作为自由曲面设计中常用的表面类型，它的Norm radius应该要怎么设定？跟Zernike系的表面设置一样吗

在对于一些离轴系统或是具有较大视场角的系统而言，如果在设计时开启 Ray Aiming，可能会导致系统的光线追迹错误并返回以下错误提示： 这种方式该如何处理或者解决？ 

如题，我想要展示一些特定的光线，怎么搞

      和 “如何设置系统中的某项参数作为扫描值，输出某对应分析/参数的扫描结果（文本/曲线）？”这个问题相似，但是最后需要将每一个参数的分析结果文档都保存下来。       具体为，在参数扫描时（厚度，倾斜角度等），需要获得每一参数下的惠更斯PSF结果，并将对应PSF的绘图（jpg）和文本（txt）均保存下来到指定文件夹。想问一下该如何操作。通用绘图 Universal Plot 暂时没有发现可以实现这项要求。非常感谢。