在下面的文章中，我們介紹了如何建立一個使用表面浮雕光柵（SRG）的EPE裝置。然而，這文章的內容其實對全像光柵並不適用。 How to simulate exit pupil expander (EPE) with diffractive optics for augmented reality (AR) system in OpticStudio: part 1 OpticStudio目前內建使用的Kogelnik模型不能用於EPE波導系統。下面我們將解釋原因並提供一個變通的辦法，以及對應使用的DLL。 注意這裡介紹的方法是基於一些假設的，因為本身一定會存在一些不確定性。下面會一併解釋。 在Kogelnik的方法中，它假設全像底片的材料本身及其環境的折射率是相同的。即使在全像條紋形成後，平均折射率仍是相同的。 但問題就在這裡，實際上，我們的全像材料是塗在一個基板上的，基本有自己的折射率，而材料的另一個可能是另一個基本或直接接觸到空氣。總之折射率不可能一樣。 在這種狀況下，我們可以想像，光線在進入全像材料時，會先需要考慮折射，進入到全像區域，接著在全像區域內發生繞射，然後這些光線離開時，又要再經歷一次折射。 注意這個模型主要是幫助理解，實際發生的狀況是光在這邊有複雜的干涉行為。但是這個模型大致上正確，很適合拿來解釋。 依照剛剛說的方式運作，我們很快可以發現，在一些條件下，光線是可以被TIR而無法離開全像區域的。問題就是這個現象在Kogelnik方法中是沒有定義的，我們沒有一個非常理論化的方法去計算此時的繞射效率應該如何。 注意不只是反射式全像，穿透式也會發生這個問題。 另外不只是零階光，一階光也是會有這個問題。 在附件的檔案中，我們用了兩個假設去加強Kogelnik方法的適用性。這兩個假設為 如果一階繞射光不存在，則所有能量被零階光帶走。 如果零階光遇到TIR，那就走反射方向。 模擬的結果如下： 打開ZAR後，相應的DLL會被自動解壓縮到對應的資料夾。 注意這個DLL有一些限制，如下： 他是基於假設的，所以理論上有一些不確定性。 必須訂閱版授權才能使用。 這個DLL只能用在OpticStudio 21 或 22 版。 如果有更多關於全像模擬的問題可以參考下面的文章。 Simulating diffraction efficiency of a volume holo

为什么打不开优化向导?

感谢大家对 Zemax 的关注与支持 ！ 本次研讨会已结束，录制视频获取地址： https://www.zemax.net.cn/blogs/webinars/zemax-21-3-release-product-webinar?utm_source=wechat&utm_medium=social&utm_campaign=product-release-21-3 这里有一些来自Zemax社区的与21.3版本相关的页面。 版本说明 点击这里查看OpticStudio 21.3版本说明 OpticStudio 21.3 版本说明 OpticsBuilder 21.3的版本说明 OpticsBuilder 21.3 版本说明 社区中的帖子 新的非序列离轴镜物体的优点 Advantages of the new nonsequential Off-Axis Mirror object 离轴镜--新的表面类型 Off-axis mirror - new surface type "转换到项目目录 "的新功能 "Convert to Project Directory" new feature: two issues KBA 我们正计划在适当的时候增加对中文版的支持。 使用项目目录来组织OpticStudio的文件 Using Project Directories to organize OpticStudio files 如何分享OpticStudio文件 How to share an OpticStudio file（关于如何使用项目目录来组织OpticStudio文件的详细信息）

帮助手册中“默认高度是在光线与子午面交汇的点进行测量的，而不是下一个表面的实际曲面”，光线怎么跟它的子午面交汇？不太理解这一句。

大佬您好，请教个问题，关于非序列琼斯矩阵的，我的问题是：我的平行光经过半波片或者四分之一薄片在经过pbs怎么p和s相位没有变化？

序列模式和非序列模式的区别是什么 ? 我应该如何选择使用哪种模式 ?

我想将测量数据直接从干涉仪导入到 OpticStudio 中的系统里。可以实现么 ?

在物理光学传播POP中，我应该如何计算光束的发散角 ? 软件中有一个 POPD 的操作数么 ?

什么是 s- 和 p- 偏振态 ? 我如何在OpticStudio中使入射光束变为 s- 偏振态?