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如何模擬光學低通濾波器 (Optical Low Pass Filter)

簡介光學低通濾波器 (optical low-pass filter, OLPF) 廣泛應用於高階成像系統中,通常放置在CCD或COMS的前方。主要的功能是過濾影像中特定的空間頻率,避免因為空間頻率跟感測器取樣頻率過於接近時,因為發生混疊 (Aliasing) 而造成摩爾紋 (Moiré)。解決這種問題可能的做法有好幾種,目前最為符合量產可行性的常見作法之一就是利用雙折射晶體把光路分裂,透過控制分裂距離,來消除特定的空間頻率。經過光學低通濾波器處理系統,反應在MTF上的效果就是特定頻率的對比會下降,如同我們使用IR-CUT削去紅色波長一樣,OLPF也可以過濾不希望出現的空間頻率。建立雙折射晶體這邊我們打開內建範例: \Documents\Zemax\Samples\Sequential\Objectives\Double Gauss 28 degree field.zmx我們將會在像面 (IMAGE) 之前建立光學低通濾波器的結構,示意圖如下: 要建立這個結構,我們在LDE中新增五個面,並設定如下: Surface 12: Birefringent InThickness: 0.1Material: CALCITEY-cosine: 1Z-cosine: 1Surface 13: Birefringent OutThickness: 0.1Surface 14: Jones MatrixThickness: 0.1A (real, image) = (1, 1)B (real, image) = (1, -1)C (real, image) = (1, -1)D (real, image) = (1, 1)Surface 15: Birefringent InThickness: 0.1X-cosine: 1Z-cosine: 1Surface 16: Birefringent OutThickness: 0.1由於在像面之前加上幾片玻璃,我們需要重新對焦,因此這裡打開Quick Adjust,調整透鏡最後一個面的厚度,如下: 最後打開多重組態編輯器,並設定如下。 由於在序列模式中我們無法讓光線分裂,因此要模擬雙折射分裂,必須使用多重組態來模擬。每個雙折射晶體都會依據偏振方向分裂為兩個光路,兩個雙折射晶體共會有4個組合,關於雙折射晶體的設定與模擬方式請參考Help文

[网络研讨会Q&A] Zemax 和 Lumerical 工作流程第 2 部分 - 从微观到宏观的光学仿真

感谢大家长期以来对 Zemax 的关注与支持!我们将在以下时间开展本次的网络研讨会,您可以通过以下链接进行本研讨会的注册。并且,您可以在我们全新的 Zemax 社区论坛上,事先或者结束后针对本次研讨会的内容对演讲者进行提问,也请自由留言进行交流。 时间:2022年8月17日(周三)16:00-17:00 参与链接: https://v.ansys.com.cn/live/IAu0Rjy9 内容摘要: 在这次网络研讨会中,我们将研究Ansys光学工具组合如何为超表面或超透镜的设计提供一个完整的工作流。这些革命性的超薄光学元件可用于操纵可见光和红外波段的光,用于许多应用,包括智能手机摄像头、AR/MR、3D传感和人脸识别。由于超表面的亚波长特性,使用电磁场求解器(Ansys Lumerical FDTD/RCWA)的组合来准确仿真超表面的相位和场轮廓至关重要,然后再结合光线追迹(Zemax OpticStudio)将其优化至需求的镜头规格。  演示者: 陈媛 | Ansys/Zemax应用工程师法国高等光学学校硕士, 在2020年加入Zemax,现为Ansys系统事业部光学产品应用工程师。主要负责内容包括全球客户的技术支持,Zemax中文论坛的技术内容创作和推广。陈致豪 | Ansys/Lumerical应用工程师大学就读於台湾清华大学电机系,在2020年加入Ansys/Lumerical担任应用工程师,熟悉FDTD和MODE仿真工具。主要负责内容包括亚太地区客户的技术支持,帮助客户排除问题以及实现仿真目标,同时也协助介绍和推广公司产品,不定期参加或协助举办研讨会,分享光子学相关领域的产品应用实例。

用Zemax OpticStudio模擬投射式車燈 (分析色散)

本範例將會示範在Zemax OpticStudio模擬一個初步簡易的投射車燈,主要目的在於介紹各種模擬中使用者可能會用到的功能,包含Lens Catalog、光源建模、光源頻譜、拋物面建模、設置探測器、色彩分析以及照度分析。簡介本文章介紹如何在Zemax OpticStudio中模擬投射式車燈,主要分為以下章節:    使用透鏡資料庫 (Lens Catalog)    建立拋物面物件    建立鎢絲光源,設定黑體輻射頻譜    建立擋板物件    設定探測器    追跡並檢視結果我們的最終架構將如下: 建立橢圓反射面橢圓反射面可以把其中一個焦點的光線反射到另一個焦點。 我們透過Standard Surface來建立。 參數設定如下:Material:MIRRORRadius:30.165Conic:-0.712Maximum Aper:50 建立光源我們將建立帶有黑體輻射頻譜的鎢絲光源,首先是光源的外型,新增物件定設定如下:Object 2: Source FilamentX Position:3Z Position:16.126Tilt About Y:-90Layout Rays:100Analysis Rays:2E7Length:5Radius:0.6Turns:8接下來點一下 NSCE 上灰色的 Object Properties選擇 Source 並設定黑體輻射頻譜如下圖:Source Color: Black Body SpectrumTemp (K): 5000Spectrum: 7、Wavelength From 0.44 To 0.64 備註:    OpticStudio 內建許多常見的頻譜模型,例如黑體輻射、LED、D65 標準白光等    也可以根據三色刺激值、色座標、sRGB 等資訊模擬頻譜    有需要也可以使用純文字文件夾自行定義 備註2:想要確認頻譜的時候,可以到Libraries > Source Spectrum Plot,輸入與剛剛一樣的頻譜設定   如所見到的,Source Spectrum Plot 用繪圖方式讓你瞭解剛剛的光源頻譜是如何設定的,這是個很方便的工具。你可以試著改變參數看看,如下圖:現在回到3D Layout設定,設定Color Rays: Wavelength,可以看到如下:  備

如何使用ZPLM提取analysis window里面的数据进行优化

先说明,ZOS 是怎么做优化的:通常会用透镜的一个暂时副本对评价函数进行评估 计算。在评价函数计算结束后,透镜的副本以及任何 对 镜头数据的改变都将 被 舍弃 。因而,在执行 ZPLM操作数 调用的宏 的过程中,镜头数据不能做任何改变。 这些 改变 将不会被保留,并且 可能会妨碍 在 同一评价函数中 ZPLM操作数 之后的操作数 的计算。 OpticStudio将无法 恢复到 ZPLM指定的宏计算之前的镜头状态。 如果 刻意 在后面的 操作数 计算 之前故意使用宏来改变镜头数据,那么应该执行两个宏。 第一个应该按需要修改数据,第二个应该重建原始条件下的数据。两个宏都可以列在评价函数编辑器中, 期间的操作数将在修改后的镜头数据基础上执行 。操作用户界面的宏命令,例如CLOSEWINDOW、 WINL()和 GETT()在此 是无效的。这一限制的原因是 这些命令从用户界面中反映 的 单一系统副本中获取信息。因此,即使 ZPLM宏更新系统副本,用户界面显示的主系统副本也不会被更新。出处: The Optimize Tab (sequential ui mode) > Optimization Overview > User Defined Operands (optimization overview) > Changes Made to the Lens from within the ZPLM Marcro 所以用以上操作数行不通,但是可以使用GETTEXTFILE获得即时的数据然后进行优化。附件以畸变为例,进行了优化。打开ZAR文件之后可以看到ZPL08.供大家参考使用

关于Opticstudio选用核数跟优化速度的关系

如果一台计算机使用多个CPU进行计算,系统并不总是需要使用所有的CPU.下面的图片显示了一个多CPU/线程工作方式的例子。有些计算只由一个CPU/线程(母线程)执行。 在这段时间里,CPU的利用率很低。有些部分需要多个CPU/线程(平行区域)。 在这段时间里,CPU的利用率很高。如果在OpticStudio中为计算配置了N-cores,OpticStudio不会就获得N-cores。这是因为操作系统决定了应用程序可以使用多少个内核。OpticStudio将根据配置从Windows请求资源。在大多数情况下,OpticStudio并不能获得所有的资源。在计算方面,更多的内核并不意味着更快的计算。这取决于你在做什么样的计算。 如果计算不需要这么多的资源,而且核心/线程的数量超过了需要,那么将数据分配给每个线程的时间会更长。您可以设置OpticStudio在计算过程中可以使用的内核数量。 然而,如上所述,你将只得到所要求的一部分资源。有一个平行计算的理论叫做阿姆达尔定律。X轴代表处理器的数量。Y轴代表加速。不同的颜色代表方案/计算的视差部分的显示。可以看出,使用2到32个内核可以提高速度,但使用更多的内核并不能提高很多速度。就实际计算而言,它更为复杂。可能影响速度的因素有:核心数量、光学系统(有多少种计算可以并行进行)、OpticStudio可以获得的资源数量,由操作系统决定硬件规格等。以上只是可能影响速度的一般因素。 

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