我在数据处理上遇到了一些小问题。我需要模拟分析镜头生产过程中的DOF分布。（同时满足三个或者四个视场的MTF规格的像面离焦范围）我想寻找一种快捷简便的方法，我现在使用的方法太浪费时间了。我现在采用ZEMAX的蒙特卡罗公差分析，并保存了1000个蒙特卡罗文件。然后用ZPL宏读取这1000个蒙特卡罗文件的FFT Through Focus MTF数据分别输出为1000个TXT文档。然后用matlab对FFT Through Focus MTF数据进行处理。我正在用ZOSAPI简化这个小程序，但是这样能节约的时间有限。 我想知道的是，我们能否在zemax进行蒙地卡罗公差分析时读取出每一个蒙地卡罗文件的FFT Through Focus MTF数据。而不是像我现在一样，必须保存这1000个蒙特卡罗文件，再进行加载文件，读取数据；加载文件，读取数据。。。。我这样这太浪费时间了。 附件里是我写的ZPI宏和matlab源文件。以及matlab计算脚本打包后的程序。里面肯定有很多不足，希望能获得一些建议。

最近上线了ZOS跟Lumerical的动态链接，这个帖子用来进行要点记录以及答疑。23-01-06：KBA更新啦Dynamic workflow between Lumerical RCWA and Zemax OpticStudio – Knowledgebase23-01-12: Lumerical操作指南Exit Pupil Expander with 1D-2D Gratings – Ansys Optics23-02-03：补充阅读材料新版的dll需要在Lumerical中定义RCWA参数，可以参考以下文章：RCWA Solver - Simulation Object – Ansys Optics

在POP的Settings內Beam Definition的Beam Type可以選擇Multimode並且需要選擇一個.zmm的檔案當做多模態的設定，另外再調整Seed與Scale請問.zmm檔的內容是定義多模雷射二極體的發散角度嗎?還是是定義其他的參數?另外Seed與Scale的相關定義是甚麼?

整理了Ansys,主要是Zemax仿真AR/VR的相关资料，主要是知识库的一些文章，然后加上论坛里面一些相关的资料，比较多，可能需要慢慢消化。我会持续更新，可以考虑收藏一下喔，ღ( ´･ᴗ･` )比心如果显示文章不存在，右上角语言选成英文的。22/11/16：增加了菲涅尔，人眼视觉以及一些学习路径。23/03/27:新增一个工具包，可以快速设定grating的参数API (CS User Extension): Diffractive DLL Setup Assistant | Zemax Community23/08/29:新增Birdbath的优化以及偏振仿真

读取折射率，阿贝数以及部分色散系数

系统介绍该系统是由一个扩束模块和一个光束会聚模块构成。一束宽度为Φ2mm的高斯光束，首先经扩束镜扩束，然后被会聚透镜聚焦。我需要确认会聚透镜焦面位置，或是离焦位置处的光斑形状和尺寸。我设计了两个不同扩束比的扩束镜，8X和80X。光束会聚模块的设计是固定的，焦距为120mm。这里我将使用8X扩束镜的系统称为小NA系统，将使用80X扩束镜的系统称为大NA系统。 问题描述对于小NA系统，POP模拟结果看上去比较合理，POP report中也没有出现任何warning。但是，在大NA系统中，模拟光斑周围出现了非常明显的artifact，类似一圈圈衍射环。 而且，在POP report中出现了非常多的warning，warning总共有两种：**** WARNING: Pilot be

感谢大家长期以来对 Zemax 的关注与支持！我们将在以下时间开展本次的网络研讨会，您可以通过以下链接进行本研讨会的注册。并且，您可以在我们全新的 Zemax 社区论坛上，事先或者结束后针对本次研讨会的内容对演讲者进行提问，也请自由留言进行交流。 时间:2022年8月17日（周三）16:00-17:00 参

  我正在嘗試透過編寫 ZPL 腳本來設定優化嚮導表以創建缺省評價函数，目標的UI設定優化嚮導(如下圖)。目標優化嚮導創建缺省評價函数(如下圖)。  這是我的 ZPL 腳本的部分屏幕截圖，詳細編碼也附在 set Merit Function.zip 中。  下圖是通過執行我的 ZPL 腳本生成缺省評價函数表。但比較目標缺省評價函数表與執行我的ZPL腳本創建的缺省評價函数表，它們有三個不同之處，同步在上方的兩個缺省評價函數表依序標示出差異處並標註數字。下表是差異的函數數值列表。

介紹物方是遠心光學系統的設計方法。

在帮助文件中，提到了 "从像面到近轴像面的距离"，但这个近轴像面是近轴计算的结果吗？

用双胶合透镜对，对激光聚焦。起初的设置如图1，POP结果见图2 图1 图2  接下来，打算分离后一对双胶合，提高聚焦质量，结果在新插入一个空气面时候，发现POP光束变差了。如图3，图4. 图3 图4  请大家帮忙判断问题出在哪里？

有朋友反馈近期的OS，在使用Image simulation之后，按照规定操作保存结果图片之后，原来可以看到图片的默认路径\Documents\Zemax\IMAFiles folder下看不到结果。这个大概率是因为，最新的版本中我们引入了Project Directory, 所以如果默认如下图勾选，图片会被保存到Project的文件夹，而不是原来的默认路径。具体Project Directory相关的说明，可以参考如下文章：Using Project Directories to organize OpticStudio files – Knowledgebase (zemax.com)如果您想继续保存在原来的\Documents\Zemax\IMAFiles folder路径，取消勾选即可

請問是否可對以下描述的系統進行成像模擬，目的為評估成像效果並進行分析(例如均勻性)，假設擁有的資訊如下:1. 鏡頭序列Black Box2. 光源CAD檔案3. 光源LED資訊目前已知在Mixed Mode無法實現，因在NSC產生的光線無法離開NSC群組，請問是否有其他可行的模擬方式?

在 Image Simulation 功能中，具有一些特殊的设置选项，例如 Oversample、Guard Band、PSF 的采样率设置等等，这些选项背后的具体意义是什么？以及这些选项之间有什么样的联系呢？多谢！

先把F数们都搬出来：Conventions and Definitions > Working F/#Conventions and Definitions > Paraxial Working F/#Conventions and Definitions > Image Space F/#总结一下，Working F/#最准，因为它基于实际光线计算。Paraxial Working F/#也考虑物像位置关系，不过用的是近轴边缘光线的计算。

DISC 操作数 用于校正f-theta畸变，那么在计算畸变时，实际像高是以主光线还是光线质心作为参考（尤其边缘视场主光线和光线质心往往相差比较大）？

光线质心操作数 CENY 与 CNPY的区别？当使用这两个操作数计算同样的视场对应的光线质心时，会差0.002mm，两个操作数究竟有何区别？

是否有任何方式可以查看分析檢測器上光源波長的輻照度峰值。 意思是我需要一個可以檢視哪個波長的光源（從某個表面反射）最好地聚焦在探測器的表面（在給定的 Z 位置）。目前的情況是探測器只包含有關功率的資訊，意思是它只提供有關總（所有波長）輻照度的資料。如下圖所示。光源頻譜 

请教一下，视场有渐晕的情况下，zemax在公差分析时会使用 user design 作为视场设置选项，比如我设置了5个视场，并勾选seperate field，公差结果可否输出一个最终的MTF值和这5个视场的MTF值？我想知道最终的MTF值是如何得出的，是将五个视场按照一定权重计算吗？怎么分配权重的？我试了下五个视场直接求平均值好像与结果数值不符。

如果图像结果的模拟结果存在一些不理想的情况，例如图片的尺寸未能铺满显示屏幕或者大于显示区域不能完全展示，又或者展示结果中存在一些像斑的单方向延展，这些情况通常情况下是由于什么原因引起的？该如何进行故障排查或者规避？

Hello,             类似这样的知识库文章找不到了该怎么办？

如题，会从公式和数据两方面分析

摘要：本範例將會示範如何在Zemax OpticStudio模擬微結構膜薄膜產生的圖案，包含以下部分：* 背景簡介* 範例1：柱狀透鏡陣列薄膜 (Lenticular Array Sheet) 交疊製造紋路* 範例2：雙面微透鏡陣列結構塑膠片的紋路產生作者：Michael Cheng文章發布時間：February 14, 2017背景簡介隨著近代射出射出與滾輪押出技術的進步，許多產品開始可以在量產層面上，製造塑膠片或薄膜上微米級的週期性微結構。例如液晶螢幕中常見的增亮膜 (Brightness Enhancement Film，以下簡稱BEF)，就是一個很好的例子。當這些微結構片 (或貼膜) 相互交疊時，若是在適當的角度下，則會產生各種條紋圖案 (Moiré)。這些條紋，根據不同的應用，有時候是必須去除的，例如當BEF與V-cut導光板交疊時，如果同方向擺置，則微小的角度差，便有可能發生螢幕亮案變化的狀況。而在另一些應用中，有時候這些圖案則是故意設計、產生以製造表面質感的。例如Rowlux® (ROWLAND公司的註冊商標) 便是一種塑膠片，利用雙面微結構陣列製造出能隨不同角度變化圖案的立體質感。本文章將用兩個不同的範例，來說明如何模擬這些效應。範例1：柱狀透鏡陣列 (Lenticular Array) 薄膜交疊製造紋路本範例中，我們模擬兩片N-BK7玻璃平板，上面各自貼上一片柱狀透鏡陣列的PMMA薄膜。然後我們把這兩片平板錯開一個角度後，建立一個遠方來的光源，照射在此結構上，最後使用Paraxial Lens與一個探測器，模擬眼睛所看到的條紋。首先結構的部分，我們使用Toroidal Lens來製作柱狀透鏡單元，然後透過Array物件把此單元複製成微陣列結構。玻璃平板則透過Rectangular Volume這個物件完成。設定如下： 

摘要：這篇文章示範了如何輸入量測資料到Zemax OpticStudio中的Grid Sag，表面起伏資料應為Z座標的sag。原文作者：永田信一さん原文發布時間：Feb 7, 2009假設我們有如下資料 表面起伏資料的定義如下。第一行，由7個數字表示。第1, 2個數字，代表X與Y方向的資料數量，資料形式為整數。第3, 4個數字，代表X與Y方向的資料間距，資料形式為浮點數。第5個數字，代表資料的單位，0表示單位是mm。第6, 7個數字，代表整體資料點的偏心量，資料形式為浮點數。第二之後的資料格式如下，ｚ　ｄｚ/ｄｘ　ｄｚ/ｄｙ　ｄ2ｚ/ｄｘｄｙ每行都是如上的資料，資料形式為浮點數。ｚ代表sag值。ｄｚ/ｄｘ　ｄｚ/ｄｙ代表X與Y方向的微分值。ｄ2ｚ/ｄｘｄｙ代表交叉微分值。資料最少需要5x5個點。在Grid Sag面的設定中，若指定使用Bicubic-spline內插的情況，為了使資料點之間sag的內插結果平滑，必須要輸入微分值。但是，若設定所有的微分值為0，或是該資料留白不輸入，Zemax會自訂使用有限差分法 (Finite Difference Method) 來計算微分值。資料的紀錄順序如下：1.    從的面的左上角，也就是Xmin、Ymax開始。2.    下一個輸入的資料是該點的右邊一個值 (就是X方向加一個間隔)。3.    第一行結束後，往地第二行左邊開頭繼續。4.    填滿時，最後一個數字應為Xmax、YminSag資料的基準面不只是平面，也可以是球面、圓錐曲面或是非球面。檔案的副檔名方面，若是在序列模式，應為 “.DAT”，若是在非序列模式，應為 “.

波前的計算當我們說波前時，事實上通常是指波前 “差”，或是光程差，指的是同一件事。OpticStudio預設使用出瞳作為波前差的計算參考。因此，當我們要計算一條光線的OPD時，此光線會從物面出發後一路追跡穿過光學系統，最終到達像面後，在循原方向後退追跡到 “參考球面”。此參考球面的球心是主光線與像面的交點，半徑是主光線與像面交點到主光線與出瞳面的焦點。然後我們就計算這條光線的總光程，並扣去主光線的光程 (因此主光線的光程差永遠為零，因為他本身就是零的參考點)。要驗證這個敘述，讓我們打開這個內建範例： \Documents\Zemax\Samples\Sequential\Objectives\Double Gauss 28 degree field.ZMX。讓我們在像面之前新增兩個面，第一個面的厚度給予設定求解 = Pupil Position，第二個面給予設定求解 = Pickup，設定為前一個面的厚度乘以-1。並指定第二個面的Radius為求解Pickup，一樣是前一個面的厚度乘以-1。第二個面就是我們所說的參考球面。目前為止設定如下：  然後我們在Merit Function中使用OPTH這個操作數驗證視場1、波長編號2，經過光瞳Py = -1位置的光線以及主光線，兩條光線在參考球面上的光程差。注意我除以波長編號2的波長 (wavelength)，因此單位會是波長 (waves)。下面可以看到我們算出來是0.272387 (須乘以一千倍)。