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OpticStudio内的通用画图工具介绍-Universal Plot

 欢迎大家的到来今天我们花点时间来认识下,OpticStudio里一个好用但有可能被遗忘的绘图小工具:Universal Plot。Universal Plot 是存在于专业版和旗舰版的通用绘图工具: 它是可以应用在序列或者非序列模式下,以任意表面参数,系统参数,多重结构或者非序列参数为变量(横轴),以优化操作数作为因变量(纵轴)的绘图工具。     换句话说,只要是能以优化操作数提取的信息,都可以作为纵轴的输出。   关于因变量(Dependent Variable)的选择,可以分为两种方式:方式1: 直接采用操作数,然后设置对应参数(下图左) 方式2:选择Merit,然后选择Merit Function Editor 中你想使用的对应行(下图右)  Universal Plot 有一维和二维可供选择,二维可以有两个变量(X,Y),一个因变量(Z)  希望这个工具可以在大家日常的设计输出或者评估中发挥作用下面我们来讨论下关于Universal Plot几个常见的问题:  采用POPD,IMAE等操作数作为因变量时,画出来的曲线感觉跟设置对不上? 如果遇到这类问题,大家可以看下Help File帮助文档里有没有对这个操作数的使用提醒    比如POPD的使用,需要设定后点击Save, 之后再用Universal Plot信息就会更新了。IMAE也是类似的操作。   采用NSDD操作数时, Universal Plot 无响应? NSDD操作数在Universal Plot的使用,须采用上述的方法二,即采用Merit方式, 且设置上需要搭配其他操作数,如NSTR一起,可以参考以下文章所描述的方法如何在Universal Plot中使用NSDD操作数  如果我想在Universal Plot中引入优化后的结果作为因变量(Dependent Variable),我应该怎么做? 首先明确的是,Universal Plot的工作流程是将变量X带入系统,算出对应的Y值,中间不涉及任何的优化过程。但如果想把优化引入之中,可以采用ZPLM。关于ZPLM也有些需要注意的地方,比如在ZPLM中采用GETT,再优化或者使用Universal Plot ,会遇到问题,可以参考下面有趣的讨论:如何在Universal Plot中引入ZPLM当然,这种方式的分析可能需要更长的时间来计算,因为必

关于Image Simulation图像模拟的二三事

欢迎大家的到来,期待大家的回复~~今天上午由高级应用工程师胡皓胜给大家带了一场关于【如何在OpticStudio中模拟图像质量】的精彩研讨会那么关于OS里的Image Simulation 图像模拟,大家可以一边回看着Haosheng的研讨会,一边看着我们的一篇知识库文章进行了同步理解~研讨会相关内容更新:如何进行图像仿真研讨会相关知识库文章:如何进行图像仿真一篇有趣的论坛案列分享(推荐~对于掌握image simulation很有帮助):Selecting Oversampling and Field height in IS | Zemax Community那使用过程中,大家常常遇到的问题解答如下问:什么是图像模拟?答:图像模拟工具通过将源位图文件与点扩散函数阵列进行卷积来模拟图像的形成。考虑的效应包括衍射,像差,畸变,相对照度,图像方向,偏振影响等。此工具有助于可视化所设计光学系统的图像质量。它提供了一种定性但直接的方法来评估成像系统的性能,并使客户更容易"看到"模拟的图像质量。问:图像模拟与几何图像分析?答:如果您的系统远未受到衍射限制,您可以使用几何图像分析 (GIA)。GIA 使用纯几何光线追踪,被认为是模拟图像的"黄金标准"。但是,如果您的系统受到衍射限制,则需要包括衍射效应。在这种情况下,您应该使用图像模拟。图像模拟使用惠更斯PSF与源位图进行卷积,以考虑衍射效应。值得注意的是,即使选择了 "像差:衍射",如果像差非常严重以至于无法准确计算衍射 PSF,分析仍可能自动切换到几何。 有关此内容的讨论列在帮助文件中。问:使用图像模拟的推荐方法是什么答:使用图像模拟工具时,建议使用视场角或物高来定义【Field Height视场高度】选项。对有限共轭系统使用"物高"(如下图所示,这点需要注意),对无限共轭系统可使用"视场角",因为这些字段类型明确定义了对象在图像空间中的大小和方向。当我们采用视场角来定义setting中的Field Height时我们需要注意,具体我们建议查看帮助文件:帮助文件中概述的使用视场角来定义的主要困难是视场角单位本质上是变形的。由于无限共轭系统不允许将物高作为定义,因此,如果您仍然希望使用物高来定义此处的Field Height,则可以使系统转换为有限共轭,方式是可以在前面添加一个近轴透镜paraxial lens。 问:图像模

[网络研讨会] Zemax集成化光学系统模拟整体解决方案 – 高能激光系统示例

感谢大家对 Zemax 的关注与支持!我们将在以下时间开展本次的网络研讨会,您可以通过以下链接进行本研讨会的注册。并且,您可以在我们全新的 Zemax 社区论坛上,事先或者结束后针对本次研讨会的内容对演讲者进行提问,也请自由留言进行交流。  时间:2021年9月15日(周三)14:00-15:00 参与链接:https://register.gotowebinar.com/register/7595644445225320718 内容摘要: 在现实的光学系统中,热效应和结构形变对于光学系统性能有着很大的影响。在这次的研讨会上,以高能激光光学系统为例,介绍使用 OpticStudio 设计光学系统、使用 OpticsBuilder 进行机械元件建模,使用 STAR 模块结合 FEA 分析数据应用于光学系统进行综合性能评价,其中将包含以实际文件为基础的演示操作。需要进行热效应和结构形变分析的复杂光学系统性能整体分析,通常都是光学设计与分析领域的痛点,本次研讨会将为您带来全新的解决方案 - 基于 OpticStudio 的 STAR 模块。该模块于 2021 年 5 月载入至 OpticStudio 21.2 版本中,可以将分析得到的 FEA 数据应用至光学系统中的各元件表面上,拟合后对于系统进行整体的光学性能分析,无缝完成所有所需操作。 本次研讨会已结束,录制视频获取地址:https://www.zemax.net.cn/blogs/webinars/high-powered-lasers 演示者: 光学工程师 胡皓胜,Zemax 中国

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