
2024 R2.01 版本說明
2024年7月17日
繁體中文:
1 資料庫與材料庫
1.1 資料與材料庫更新(支援於所有版本)
將最新版本的 Focuslight、Ohara以及Optimax 庫更新至 OpticStudio。
庫存鏡頭:
- Focuslight MicroOptics 鏡頭目錄已被更新:
- 更新了 7 款用於光束准直和再聚焦的微透鏡。
- 該目錄將包括5個 Silicon 材料和 2 個 Fused Silica 微透鏡,具有低指向誤差和最小的光學相位畸變,可通過晶圓級製造實現。使用反應式離子蝕刻 (RIE) 在晶圓級生產定制單片微光學元件,將必要的結構轉移到矽和熔融石英基板上。
- 所提供的線性微透鏡陣列 (MLA) 非常適合作為光纖網路的單模和多模連接器,支援TOSA/ROSA、WSS、MUX、DEMUX 和 ROADM等應用。
- 每個耦合器/准直透鏡鏡頭模型都將包括以下表面:
- 前透鏡表面:它表示前側的透鏡曲率和從透鏡頂點開始的總晶片厚度。
- 後透鏡表面:它對應於圖案化晶片的背面。前表面和後表面的機構半直徑,可以視為指定微透鏡陣列間距的一半。如果未指定,有效直徑為機構直徑的90%。
- 像面:是聚焦位置沿Z軸的位置。換句話說,它對應於透鏡的工作距離。如果未指定,則可以將其計算為邊緣光線得到的焦點位置。
材料庫更新:
- Ohara材料庫已更新,添加了新材料:S-NBM52,並更新了共429個玻璃材料的參數。
- 增加了Focuslight材料目庫:引入了一種新的矽材料 (FL_SILICON),以滿足此類元件1.330 μm的工作波長。
鍍膜資料庫:
- Focuslight
- 內置鍍膜資料庫 COATING.DAT 檔將新增兩款針對 0° 的AR 膜層,一款用於 Silicon 材料 (FOCUSLIGHT_SI: 1.1 μm ≤λ≤ 1.95 μm),另一款用於 Fused Silica (FOCUSLIGHT_FS: 1 μm ≤λ≤ 2 μm)。
測試樣板列表:
- Optimax 測試樣板列表已被更新。
2 Bug 修復清單
- API 授權分享 – 修復了在開啟多個 OpticStudio 實例視窗時將重複佔用 License 席位的問題。
- 材料庫內按鈕不可用 – 修復了材料庫中 “Save Catalog As” 以及 “Copy Glass” 按鈕不可用的問題。
简体中文:
1 数据库与材料库
1.1 数据与材料库更新(支持于所有版本)
将最新版本的Focuslight、Ohara以及Optimax 库更新至 OpticStudio。
库存镜头:
- Focuslight MicroOptics 镜头库已被更新:
- 更新了 7 款用于光束准直和再聚焦的微透镜模型。
- 该目录将包括5个 Silicon材料和2个Fused Silica材料微透镜,具有低指向误差和最小的光学相位畸变,可通过晶圆级制造实现。使用反应离子蚀刻 (RIE) 在晶圆级生产定制单片微光学元件,将必要的结构转移到硅和熔融二氧化硅衬底上。
- 所提供的线性微透镜阵列 (MLA) 非常适合作为光网络的单模和多模连接器,支持TOSA/ROSA、WSS、MUX、DEMUX和ROADM等应用。
- 每个耦合器/准直透镜镜头模型都将包括以下表面:
- 前透镜表面:它表示前侧的透镜曲率和从透镜顶点开始的总晶片厚度。
- 后透镜表面:它对应于图案化晶片的背面。前表面和后表面的机械半直径,可以视为指定微透镜阵列间距的一半。如果未指定,通光孔径为机械直径的90%。
- 像面:是聚焦位置沿Z轴的位置。换句话说,它对应于透镜的工作距离。如果未指定,则可以将其计算为边缘光线得到的焦点位置。
材料库更新:
- Ohara材料库已更新,添加了新材料:S-NBM52,并更新了共429个玻璃材料的参数。
- 增加了Focuslight材料目库:引入了一种新的硅材料 (FL_SILICON),以满足此类元件1.330 μm的工作波长。
膜层库:
- Focuslight
- 内置膜层库 COATING.DAT 文件将新增两款针对 0° 的AR 膜层,一款用于 Silicon 材料 (FOCUSLIGHT_SI: 1.1 μm ≤λ≤ 1.95 μm),另一款用于 Fused Silica (FOCUSLIGHT_FS: 1 μm ≤λ≤ 2 μm)。
测试样板列表:
- Optimax 测试样板列表已被更新。
2 Bug 修复
- API 授权分享 – 修复了在开启多个 OpticStudio 实例窗口时将重复占用 License 席位的问题。
- 材料库内按钮不可用 – 修复了材料库中 “Save Catalog As” 以及 “Copy Glass” 按钮不可用的问题。