2021年1月19日
1 ツールと機能
1.1 ネイティブ体積ホログラム (すべてのエディション) 及び回折効率の解析
(サブスクリプションの PROFESSIONAL および PREMIUM のみ)
体積ホログラムと解析がシーケンシャル モードでネイティブにサポート
このリリースでは新しいネイティブ体積ホログラムと回折効率解析ツールがシーケンシャル モードに追加され、これまで DLLを使用していた解析が可能になりました。。これにより、材料の収縮や屈折率シフトなどの特性を考慮して、シーケンシャル モードで体積ホログラム グレーティングの完全なシミュレーションが可能になりました。厚いホログラムの回折効率を Kogelnik 法を使用して計算し、像をシミュレーションすることが可能になりました。新たに 3 つの解析、角度に対する回折効率] (Efficiency vs. Angle)、波長に対する回折効率] (Efficiency vs. Wavelength)、回折効率] (Diffraction Efficiency) が可能になりました。これらの新しい解析ツールは、L解析] (Analyze)> 回折効率] (Diffraction Efficiency) からアクセスできます。
図 1.1: 新しい回折効率解析ウィンドウ
新しい面パラメータの追加により、シーケンシャルモードの eホログラム 1] (Hologram 1)、ホログラム 2] (Hologram 2)、トロイダル ホログラム] (Hologram 1)、光学合成ホログラム] (Optically Fabricated Hologram) 面で体積ホログラムとその解析がサポートされました。これらの新しいパラメータの詳細については、ヘルプファイルおよび新しく更新されたナレッジベースの記事 「体積ホログラフィック グレーティングの回折効率を Kogelnik 法でシミュレーションする」 を参照してください。
1.2 新しいロール公差のオペランド (すべてのエディション)
6 つの新しいロール オペランドにより、貼り合わせエレメントの公差解析を簡便化
OpticStudio 21.1 は、6 つの新しいロール オペランドを備えています。TRLX、TRLY、TRLR、TARX、TARY、および TARR です。これらのオペランドは、貼り合わせ部品がずれて接合している面にロールが発生する際に、貼り合わせ部品の公差用に設計されています。
これらの新しいロール オペランドは、貼り合わせ部品のアライメント誤差を面の曲率中心に対する回転としてモデル化します。最小または最大のロールは、r変動指示値の合計] (TIR: Total Indicator Runout) または光学部品間の角度として定量化することができます。
1.3 新しいラジアル方向における面のディセンタ公差のオペランド (すべてのエディション)
円形光学部品用に設計された 2 つの新しいラジアル方向における面のディセンタ公差オペランド
2 つの新しいディセンタ オペランド、エレメント向けの TEDR と面向けの TSDR が追加されました。これらのオペランドは、ランダムな半径軸方向にディセンタさせる機能を追加することで、OpticStudio の既存のディセンタ オペランドの機能を拡張します。これらは、従来のカメラ レンズや顕微鏡対物レンズのような円形マウントで円形光学部品をモデリングする場合に推奨されます。これらの系において、既存のデカルト座標系ディセンタ オペランドでは、X軸とY軸の間の 45° の対角線方向に偏りが生じさせます。
2 新機能の試行
2.1 新しい最適化方法 (すべてのエディション)
新たに追加された DLSX と PSD の最適化手法
ローカル最適化、グローバル最適化、およびハンマー最適化で使用する DLSX (streamlined DLS) および PSD (pseudo-second derivative) 最適化方法が追加されました。この新機能の試行を有効にするには、ヘルプ] (Help) > 新機能の試行] (Feature Experiments) > 新しいローカル最適化方法] (New Local Optimization Methods) を選択します。
2.2 強化された広角レイエイミング (すべてのエディション)
広角系でのレイエイミングの速度と安定性の改善
この新機能の試行では、システム エクスプローラ] (System Explorer) で 近軸] (Paraxial) レイエイミングまたは 実光線] (Real) レイエイミングのどちらかを有効にすると、レイエイミングが改善されます。速度と安定性の改善のほとんどは、0ロバストなレイ エイミング] (Robust Ray Aiming) を有効にする必要があります。この機能は、広角レンズ、軸外しシステム、および非球面エレメントから始まるレンズに最も大きな効果があります。この新機能の試行を有効にするには、oヘルプ] (Help) > 新機能の試行] (Feature Experiments) > e強化された広角レイエイミング] (Enhanced Wide Angle Ray Aiming) を選択します。
3 プログラミング
3.1 ZOS-API: 回折効率の解析
(サブスクリプションの PROFESSIONAL および PREMIUM のみ)
ZOS-API に新しい回折効率機能を搭載
3つの新しい回折効率解析は、すべて ZOS-API から利用可能です。
4 ライブラリ及びカタログ
4.1 カタログの更新 (すべてのエディション)
NHG、 CDGM、 SUMITA、 Hubei Gabrielle-Optech、 Applied Optics、 RPO、及び EKSMA Optics. の最新カタログ
<材質カタログ] (Materials Catalog)
·NHG カタログに 10 種類の新しい材料が追加されました。
·CDGM カタログは16 種類の新しい材料を含むように更新されました。また、62 種類の材料は、拡張された屈折率範囲に対応したセルマイヤの分散式 1 (Sellmeier 1) を使用するように更新され、3 種類の材質は廃止と表示されています。溶解頻度] (Melt Frequency) 、i相対コスト] (Relative Cost) 、および ステータス] (Status) がカタログ全体で更新されました。
·SUMITA カタログに 3 種類の新しい材料が追加され、3 種類の材料の特性が更新されました。
·Hubei Gabrielle-Optech Co., LtdのGBJという新しいカタログを追加しました。
原器リスト] (Test Plate Lists)
·Applied 原器リストが更新されました。
=レンズ カタログ] (Lens Catalogs)
·RPO カタログが更新され、4 つの新レンズ、A260、A280、A635、A658が掲載されました。
·EKSMA OPTICSカタログに FemtoLine Thin Lenses を含む新レンズが追加されました。
コーティング カタログ] (Coating Catalog)
·COATING.DAT コーティング ファイルに、ファイル内のデータのフォーマットに関する詳細な情報を含むコメントが追加されました。
5 パフォーマンスおよび安定性の改善
OpticStudio 21.1 には、以下の機能改善が含まれています。
·光源 (回折)] (Source Diffractive) - ノンシーケンシャル モードで光源 (回折) を使用した場合の安定性が改善されました。
·hライセンス マネージャー] (License Manager) – HASP ドライバの確認] (Check HASP Drivers) を eHASP ドライバの確認と修復] (Check & Repair HASP Drivers) に更新しました。
·>クイック歩留まり] (Quick Yield) – TEZIとTEXIオペランドのサポートを追加しました。
6 バグ修正
OpticStudio 21.1には、以下のバグ修正が含まれています。
·GRIN – 7単一光線追跡] (Single Ray Trace) および 偏光光線追跡] (Polarization Ray Trace) で、個々の光線が光線切片の屈折率ではなく、ローカル頂点の屈折率を使用していた問題を修正しました。これは、与えられた面で報告される方向余弦にのみ影響し、像面への実際の GRIN 光線追跡には影響しません。
·<標準スポット ダイアグラム] (Standard Spot Diagram) – スポット ダイアグラムは、アフォーカル モードでの単位を正しく表示するようになりました。計算に影響はありません。
·n最適化オペランド] (Optimization Operands) – 最適化オペランド ACOS (逆余弦) 入力では、入力値の逆余弦を取る前に、+1.0 より大きく -1.0 より小さい入力値をそれぞれ正確に +1.0 または -1.0 に丸めるようになりました。
·
·"単一光線追跡] (Single Ray Trace) – グローバル座標を使用した場合、ミラー空間で出力される方向余弦の符号が正しくなるように改善しました。これは偏光光線追跡、メリットファンクション オペランド、ZPL数値関数にも適用されます。ローカルな光線追跡と結果は、この改善の影響を受けません。
·/Zemax ブラック ボックス] (Zemax Black Box) – ブラック ボックス ファイル内でのビネッティング光線の取り扱いを改善しました。
·レイアウト] (Layout Plots) – レイアウトでのQ-Type自由曲面のサグ表現を修正しました。このバグは光線追跡アルゴリズムには影響しません。
·干渉図形] (Interferogram) – 干渉図形解析設定で、F3キーを押したときや元に戻すボタンをクリックしたときに、すべての値がデフォルトにリセットされてしまう問題が修正されました。