溶液中に存在する粒子の吸光、散乱を評価できるようなモデルをノンシーケンシャル系で作成していて質問があります。

Mie.1dllを使用し、光源、溶液、ディテクタの３つのオブジェクトで評価しているのですが、Particle Indexの設定時にわからないことがございます。

シェードモデルで光線を確認しながらParticle indexを大きく（初期値から溶液の屈折率より上）していくと、散乱が発生する回数が増える事象が起きました。（光線を保存して光線データベースビューアで確認し、実際に代わっていることも確認しました）

想定では屈折率が変わったときに散乱方向や散乱強度に影響はあるが、散乱回数は変わらないと思っていたのですが、こちらはどういった理由で起きているのでしょうか。