2021年2月16日
OpticStudio 21.1.1 には、以下の修正と機能強化が含まれています。
パフォーマンスおよび安定性の改善
· [分布 5] (Gradient 5) – 分布 5面上での光線面切片の検出が、特に大きな入射角に対してより速く、
よりロバストなものになりました。
·CAD – ACIS ライブラリを使用した場合の同じ位置にある他の形状との重なりと、
[貼り合わせ距離 (レンズ単位)] (Glue Distance In Lens Units) の検出精度を改善しました。
バグ修正
· [Zemax ブラック ボックス] (Zemax Black Box) – ブラック ボックスで定義されたアパチャーがケラレの原因となる場合に、ブラック ボックスの光線追跡と近軸像高計算で発生する問題を修正しました。
·体積ホログラム – 体積ホログラムを用いた光線追跡の挙動を修正しました。これには、曲線ホログラムといくつかのミラー空間構成におけるホログラムが含まれます。
·公差解析 – 公差の基準は MTF が選択されている場合に、[歩留まり] (Yield) のプロットが誤って反転することがあるバグを修正しました。
