简体中文:
發布日期:2021/1/19
工具、功能和性能
原生体全息（所有版本）以及衍射效率分析（仅限订阅制专业版和旗舰版）
体全息以及其分析当前以原生的形式在序列模式下运行。
这次发布为序列模式带来了新的原生体全息和衍射效率分析工具，这在以前只能使用DLLs才能实现。该功能考虑材料收缩和折射率偏移的影响，在序列模式下完全模拟体全息光栅。现在可以用Kogelnik方法计算厚全息的衍射效率，并模拟图像。该版本引入3种新的分析:效率vs角度，效率vs波长，以及衍射效率。关于这些新的分析工具的详细信息，请参考 分析>衍射效率。
图 1.1: 全新衍射效率分析界面
序列模式下的体全息功能通过添加新的表面参数支持全息1、全息2、环面全息图和光学全息图曲面。可以从以下文章找到更多细节：Simulating diffraction efficiency of a volume holographic grating using Kogelnik’s method.
新的翻滚公差操作数（所有版本）
6个新增的翻滚公差操作数使胶合元件的公差仿真更为方便。
OpticStudio 21.1 引入六个新的翻滚公差操作数: TRLX, TRLY, TRLR, TARX, TARR和TARR。这些是为仿真胶合元件公差而设计的：元件可以在光轴不对齐的情况下胶合，在接触的表面之间形成翻滚。
这些新的翻滚操作数将这种光轴不对齐建模为围绕曲面曲率中心的旋转。最小或最大滚动通过总指针跳动(TIR)或光学元件之间的翻滚角度进行量化。
新的径向偏心公差（所有版本）
2个为圆形光学系统设计的径向偏心公差操作数。
两个新的偏心操作数:分别用于仿真元件和曲面的公差：TEDR和TSDR。这两个操作数可以实现沿随机径向分配公差，对OpticStudio中现有的偏心操作数进行了扩展。建议使用这两项操作数对圆形光学元件安装以及圆形镜筒进行建模，如传统相机镜头或显微镜物镜。现有的笛卡尔偏心操作数可能导致公差后的系统在与X和Y轴各夹45°角的对角线上产生极值的偏向。
新功能体验
新的优化方法(所有版本)
增加了DLSX 以及 PSD 优化方法。
新增的DLSX(流线型DLS)和PSD(伪二阶导数)优化方法可应用于局部、全局和Hammer优化中。请选择 帮助>功能体验>新局部优化方法 激活该项功能。
增强的广角光线追迹(所有版本)
提升了广角光线追迹的速度以及稳定性。
如果在系统资源管理器中启用了近轴或真实光线瞄准，该功能可以改进光线瞄准。大部分速度和稳定性的提升需要启用鲁棒的光线瞄准。该功能主要影响广角镜头、离轴系统和以非球面元素开始的镜头。请选择 帮助>功能体验>增强广角光线追迹 激活该项功能。
编程
ZOS-API: 衍射效率分析(仅限订阅制专业版和旗舰版)
ZOS-API 包含了新的衍射效率特性。
ZOS-API新增了三种衍射效率分析方法。
材料和目录
目录更新 (所有版本)
获取NHG, CDGM, SUMITA, Hubei Gabrielle-Optech, Applied Optics, RPO以及 EKSMA Optics的最新材料目录。
材料目录
• NHG 目录增加了10种新材料。
• CDGM 目录增加了16种新材料。此外62种材料使用Sellmeier 1公式 扩大了折射率范围。3种材料被标记为废弃。整个目录的材料熔炼频次，相对价格以及状态均进行了更新。
• SUMITA 目录新增了3种材料，并更新了3种材料的属性。
• 新增了湖北戈碧迦光电科技股份有限公司的材料库，代号为 GBJ。
样板列表
• 更新了 Applied 样板列表文件。
镜头目录
• 更新后的RPO新增了4个镜头:A260, A280 A635和A658。
• EKSMA OPTICS 新增了Femtoline薄透镜。
镀膜目录
• COATING.DAT 镀膜文件新增备注用以包括更多关于数据命名的信息。
性能和稳定性提升
OpticStudio 21.1 包含以下性能提升:
• 衍射光源 – 提升了非序列模式下使用衍射光源的稳定性。
• Zemax 授权管理– 用于检查及修复HASP驱动的HASP驱动功能更新。
• 快速良率 – 支持TEZI和TEXI操作数。
错误修复
OpticStudio 21.1 包括以下错误修复:
• GRIN – 修正了使用GRIN材料时单光线追迹和偏振光线追迹中单根光线使用局部顶点折射率而非光线与表面交点处折射率的问题。该错误只影响指定表面上汇报的方向余弦，并不影响真实GRIN追迹光线至像面。
• 点列图 – 点列图现在可正确显示无焦模式下的单位。该错误不影响计算。
• 优化操作数 – 优化操作数 ACOS (反余弦) 现在可在计算反余弦值前对大于+1.0 和小于 -1.0 的输入进行精确舍入，分别为 +1.0或 -1.0
• OpticsBuilder准备工作 – OpticsBuilder的转换工具当前可以根据镜头的单位正确显示位置公差。
• 单根光线追迹 – 正确计算在使用全局坐标时镜像空间的余弦符号。该项修正同时应用于偏振光线追迹，评价函数，ZPL数值计算中。局部光线追迹以及结果不受此项修正影响。
• Zemax 黑盒文件 – 对ZBB黑盒文件内渐晕光线的处理进行了改进。
• 布局图 – 修正了Q-Type 自由曲面在布局图中矢高渲染的问题。该错误不影响光线追迹算法。
• 干涉图 – 修正了在干涉图分析设置中，当按下F3键或点击撤销按钮时，所有值重置为默认值的问题。
繁體中文:
發布日期:2021/1/19
工具、功能和性能
原生體全像(所有版本)以及繞射效率分析（僅限訂閱制的專業版和旗艦版）
體全像以及其分析現階段可在序列模式下運行。
新版本為序列模式帶來了新的原生體全像和繞射效率分析工具，這在以前只能使用DLLs才能實現。該功能考慮材料收縮和折射率偏移的影響，在序列模式下完全模擬體全像光柵。現在可以用Kogelnik方法計算厚全像的繞射效率，並模擬圖像。該版本引入3種新的分析:效率vs角度，效率vs波長，以及繞射效率。關於這些新的分析工具的詳細資訊，請參考Analyze > Diffraction Efficiency。
序列模式下的體全像功能通過添加新的表面參數支持全像1(Hologram 1)、全像2(Hologram 2)、環面全像圖(Toroidal Hologram)和光學全像圖(Optically Fabricated Hologram)曲面。可以從以下文章找到更多細節：Simulating diffraction efficiency of a volume holographic grating using Kogelnik’s method。
新的轉動公差操作數（所有版本）
6個新增的公差操作數使膠合元件的公差模擬更為方便。
OpticStudio 21.1 引入六個新的公差操作數: TRLX, TRLY, TRLR, TARX, TARR和TARR。這些是為模擬膠合元件公差而設計的，其中元件可能會在接觸表面之間產生捲曲而不對齊。這些新的操作數將這種光軸不對齊建模為圍繞曲面曲率中心的旋轉。最小或最大轉動通過總指針跳動(TIR)或光學元件之間的轉動角度進行量化。
新的徑向偏心公差（所有版本）
2個為圓形光學系統設計的徑向偏心公差操作數。
兩個新的偏心操作數:分別用於模擬元件和曲面的公差：TEDR和TSDR。這兩個操作數可以實現沿隨機徑向分配公差，對OpticStudio中現有的偏心操作數進行了擴展。當在圓形支架中建立圓形光學模型時，如傳統的的相機鏡頭和顯微鏡物鏡。現有的笛卡爾偏心操作數可能會導致系統在與X和Y軸之間的45°對角線偏移。
新功能體驗
新的優化方法(所有版本)
增加了DLSX 以及 PSD 優化方法。
新增的DLSX(流線型DLS)和PSD(偽二階導數)優化方法可應用於局部、全域和Hammer優化中。請選擇 説明>功能體驗>新局部優化方法(Help > Feature Experiments > New Local Optimization Methods)啟動該項功能。
增強的廣角光線追跡(所有版本)
提升了廣角光線追跡的速度以及穩定性。
如果在系統資源管理器中啟用了近軸或真實光線瞄準，該功能可以改進光線瞄準。大部分速度和穩定性的提升需要啟用Robust Ray Aiming。該功能主要影響廣角鏡頭、離軸系統和以非球面元件開始的鏡頭。請選擇 幫助>功能體驗>增強廣角光線追跡(Help > Feature Experiments > Enhanced Wide Angle Ray Aiming)啟動該項功能。
程式設計
ZOS-API: 繞射效率分析(僅限訂閱制的專業版和旗艦版)
ZOS-API 包含了新的繞射效率功能。
ZOS-API新增了三種繞射效率分析方法。
材料和目錄
目錄更新 (所有版本)
獲取NHG, CDGM, SUMITA, Hubei Gabrielle-Optech, Applied Optics, RPO以及 EKSMA Optics的最新材料目錄。
材料目錄
- NHG 目錄增加了10種新材料，並更新了目錄中大部分材料的一些資料。
- CDGM 目錄增加了16種新材料。此外62種材料使用Sellmeier 1公式擴大了折射率範圍。3種材料被標記為廢棄。整個目錄內材料的熔融頻率，相對價格以及狀態均進行了更新。
- SUMITA 目錄新增了3種材料，並更新了3種材料的屬性。
- 新增了湖北戈碧迦光電科技股份有限公司(Hubei Gabrielle-Optech Co., Ltd)的材料庫，代號為 GBJ。
樣板列表
- 更新了 Applied 樣板列表檔。
鏡頭目錄
- RPO新增了4個鏡頭:A260, A280 A635和A658。
- EKSMA OPTICS 新增了Femtoline薄透鏡。
性能和穩定性提升
OpticStudio 21.1 包含以下性能提升:
- 繞射光源 – 提升了非序列模式下使用繞射光源的穩定性。
- Zemax 授權管理– 用於檢查及修復HASP驅動的HASP驅動功能更新。
- 快速良率 – 支持TEZI和TEXI操作數。
錯誤修復
OpticStudio 21.1 包括以下錯誤修復:
- GRIN – 修正了使用GRIN材料時單光線追跡和偏振光線追跡中的一個問題，即個別光線使用局部頂點折射率而非光線與表面交點處折射率的問題。該錯誤只影響報告中指定表面的方向余弦，並不影響真實GRIN追跡光線至像面的軌跡。
- 點列圖 – 點列圖現在可正確顯示無焦模式下的單位。該錯誤不影響計算。
- 優化操作數 – 優化操作數 ACOS (反余弦) 現在可在計算反余弦值前對大於+1.0 和小於 -1.0 的輸入進行精確舍入，分別為 +1.0或 -1.0，然後再取輸入值做計算，
- OpticsBuilder準備工作 – OpticsBuilder的轉換工具當前可以根據鏡頭的單位正確顯示位置公差。
- 單光線追跡 – 正確計算在使用全域座標時鏡像空間的余弦符號。該項修正同時應用於偏振光線追跡，評價函數，ZPL數值計算中。局部光線追跡以及結果不受此項修正影響。
- Zemax 黑盒子– 對ZBB黑盒子內漸暈光線的處理進行了改進。
- 佈局圖 – 修正了Q-Type 自由曲面在佈局圖中矢高渲染的問題。該錯誤不影響光線追跡演算法。
- 干涉圖 – 修正了在干涉圖分析設置中，當按下F3鍵或點擊撤銷按鈕時，所有值重置為預設值的問題。
