1.1 ​​​​​​​資料與材料庫更新（支援於所有版本）

將最新版本的 Focuslight、Ohara以及Optimax 庫更新至 OpticStudio。

庫存鏡頭：

• Focuslight MicroOptics 鏡頭目錄已被更新：

• 更新了 7 款用於光束准直和再聚焦的微透鏡。
• 該目錄將包括5個 Silicon 材料和 2 個 Fused Silica 微透鏡，具有低指向誤差和最小的光學相位畸變，可通過晶圓級製造實現。使用反應式離子蝕刻 (RIE) 在晶圓級生產定制單片微光學元件，將必要的結構轉移到矽和熔融石英基板上。
• 所提供的線性微透鏡陣列 (MLA) 非常適合作為光纖網路的單模和多模連接器，支援TOSA/ROSA、WSS、MUX、DEMUX 和 ROADM等應用。
• 每個耦合器/准直透鏡鏡頭模型都將包括以下表面：
  • 前透鏡表面：它表示前側的透鏡曲率和從透鏡頂點開始的總晶片厚度。
  • 後透鏡表面：它對應於圖案化晶片的背面。前表面和後表面的機構半直徑，可以視為指定微透鏡陣列間距的一半。如果未指定，有效直徑為機構直徑的90%。
  • 像面：是聚焦位置沿Z軸的位置。換句話說，它對應於透鏡的工作距離。如果未指定，則可以將其計算為邊緣光線得到的焦點位置。

材料庫更新：

• Ohara材料庫已更新，添加了新材料：S-NBM52，並更新了共429個玻璃材料的參數。
• 增加了Focuslight材料目庫：引入了一種新的矽材料 (FL_SILICON)，以滿足此類元件1.330 μm的工作波長。

鍍膜資料庫：

• Focuslight
  • 內置鍍膜資料庫 COATING.DAT 檔將新增兩款針對 0°  的AR 膜層，一款用於 Silicon 材料 (FOCUSLIGHT_SI: 1.1 μm ≤λ≤ 1.95 μm)，另一款用於 Fused Silica (FOCUSLIGHT_FS: 1 μm ≤λ≤ 2 μm)。

測試樣板列表：

• Optimax 測試樣板列表已被更新。​​​​​​

• API 授權分享 – 修復了在開啟多個 OpticStudio 實例視窗時將重複佔用 License 席位的問題。
• 材料庫內按鈕不可用 – 修復了材料庫中 “Save Catalog As” 以及 “Copy Glass” 按鈕不可用的問題。

1 数据库与材料库

1.1 数据与材料库更新（支持于所有版本）

将最新版本的Focuslight、Ohara以及Optimax 库更新至 OpticStudio。

库存镜头：

• Focuslight MicroOptics 镜头库已被更新：

• 更新了 7 款用于光束准直和再聚焦的微透镜模型。
• 该目录将包括5个 Silicon材料和2个Fused Silica材料微透镜，具有低指向误差和最小的光学相位畸变，可通过晶圆级制造实现。使用反应离子蚀刻 (RIE) 在晶圆级生产定制单片微光学元件，将必要的结构转移到硅和熔融二氧化硅衬底上。
• 所提供的线性微透镜阵列 (MLA) 非常适合作为光网络的单模和多模连接器，支持TOSA/ROSA、WSS、MUX、DEMUX和ROADM等应用。
• 每个耦合器/准直透镜镜头模型都将包括以下表面：
  • 前透镜表面：它表示前侧的透镜曲率和从透镜顶点开始的总晶片厚度。
  • 后透镜表面：它对应于图案化晶片的背面。前表面和后表面的机械半直径，可以视为指定微透镜阵列间距的一半。如果未指定，通光孔径为机械直径的90%。
  • 像面：是聚焦位置沿Z轴的位置。换句话说，它对应于透镜的工作距离。如果未指定，则可以将其计算为边缘光线得到的焦点位置。

材料库更新：

• Ohara材料库已更新，添加了新材料：S-NBM52，并更新了共429个玻璃材料的参数。
• 增加了Focuslight材料目库：引入了一种新的硅材料 (FL_SILICON)，以满足此类元件1.330 μm的工作波长。

膜层库：

• Focuslight
  • 内置膜层库 COATING.DAT 文件将新增两款针对 0°  的AR 膜层，一款用于 Silicon 材料 (FOCUSLIGHT_SI: 1.1 μm ≤λ≤ 1.95 μm)，另一款用于 Fused Silica (FOCUSLIGHT_FS: 1 μm ≤λ≤ 2 μm)。

测试样板列表：

• Optimax 测试样板列表已被更新。​​​

• API 授权分享 – 修复了在开启多个 OpticStudio 实例窗口时将重复占用 License 席位的问题。
• 材料库内按钮不可用 – 修复了材料库中 “Save Catalog As” 以及 “Copy Glass” 按钮不可用的问题。