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Distortion Focal Length的定義 (ZPL範例)

本文章介紹了:    Field Curvature/Distortion分析的文字區塊中Distortion Focal Length的定義    使用Single Ray Trace驗證    介紹用ZPL中的PLOT、RAYTRACE指令    用ZPL簡單的驗證Distortion Focal Length的定義文章發布時間:September 23, 2015 系統分析功能中的Distortion Focal Length當我們在OpticStudio中打開Field Curvature/Distortion分析功能時,會在文字區塊中看到這個參數,有些使用者會好奇這是什麼參數,為什麼他與狀態列上的有效焦距EFFL不同。請開啟範例檔:\Zemax\Samples\Sequential\Objectives\Double Gauss 28 degree field.zmx請開啟Analyze Ribbon > Aberration > Field Curvature and Distortion,並記得在Settings中設定使用主波長2,也就是0.587 um。(這是為了與之後我們撰寫ZPL時使用相同的波長驗證)點擊一下視窗下方的Text標籤,並找到如下的Distortion focal length參數。 可以很輕易的發現他與整個主視窗下方的狀態列上的EFFL數值不同。  什麼是Distortion Focal Length要瞭解Distortion Focal Length,首先我們先查看Help檔案。 根據上面反白的文字,系統會先追跡小視場,然後其他較大視場的入射光線再根據Yref=f*TAN(theta)放大。其中f就是在小視場下計算的,我們可以用追跡工具Single Ray Trace簡單的驗證: (請注意波長為2)由於此範例最大視場為14度,因此Hy = 0.0001代表0.0014度,Px = Py = 0代表chief ray,可看到第7個面的像高為2.4271401744E-003。我們把公式轉換為f = Yref / TAN(theta) = 2.4271401744E-003 / TAN(0.0014 degree) = 99.3320630可發現與Field Curvature/Distortion分析功能文字區塊

Ansys Zemax STAR与Ansys Mechanical/Fluent的跨界合作

 欢迎大家的到来~🥂😊之前我们已经认识了STAR模块(Zemax STAR模块的自白---【我是一个分析温度、形变对光学系统影响的工具】 | Zemax Community),对于整个工作流来讲,OpticStudio,STAR模块与其他Ansys工具的集成可以使工作流程得以简化且保证了精度。对STAR感兴趣的盆友可以点击如下链接加入STAR User Group,相关STAR的信息都会更新在其中STAR User Community我们以高能激光的案例再来说明下这个工作流:光学系统的设计(分析、优化、公差分析等):Ansys Zemax OpticStudio在OpticStudio中完成光学设计后,对于光机设计,可参与构建 CAD 和其他机械组件的Ansys软件:Zemax OpticsBuilder,SpaceClaim等,具体选择取决于具体情况。导出设计以进行 FEA 分析。将OpticStudio和CAD的组件导入Ansys Mechanical进行热或应力条件下的有限元仿真分析(初始条件也可以导入)。 定义网格并在感兴趣区域使用更精细的网格应用网格控制,以获得更好的保真度,而不太重要的区域使用稀疏网格,从而加快处理速度。OpticStudio STAR模块具有的一大优势是可以应用于光学元件的网格控制,STAR能够导入非均匀数据。    接下来,我们使用Ansys Mechanical进行瞬态分析,可同时查看机械和光学组件。绘制单个或多个组件的图表,如下图。  当然,也可以结合Ansys Fluent做相关的流体分析:  在运行包括结构,热,CFD等在内的研究之后,通过STAR模块将其完整地带到OpticStudio。要尽可能轻松地执行此操作,请尝试使用Ansys WorkBench的ACT文件扩展,它允许以STAR要求的格式导出数据。从零件树或屏幕中选择光学元件,单击鼠标右键,然后从下拉列表中选择导出到 STAR。  将相应数据利用STAR导入 OpticStudio 中 ,并进行相关分析: 

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