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[网络研讨会] 使用Zemax OpticStudio与Lumerical RCWA动态连结来设计并优化光波导

感谢大家长期以来对 Zemax 的关注与支持!我们将在以下时间开展本次的网络研讨会,您可以通过以下链接进行本研讨会的注册。并且,您可以在我们全新的 Zemax 社区论坛上,事先或者结束后针对本次研讨会的内容对演讲者进行提问,也请自由留言进行交流。时间:2022年7月21日(周四)9:00 PM - 9:45 PM (GMT+8)2022年7月22日(周五)2:00 AM - 2:45 AM (GMT+8)参与链接: https://register.gotowebinar.com/rt/1317253837013918220?source=Zemax内容摘要:这些年来,增强现实(AR)设备的市场一直在增长,并继续加快这一进程。在许多不同类型的设计中,衍射波导成为市场上最重要的主流之一。在这次网络研讨会上,我们将介绍一个设计和优化波导的工作流程解决方案,它也被称为出瞳扩展器。在这个工作流程中,首先在Lumerical环境中设计和分析最初的一维或二维光栅。该光栅可以被参数化,其中的几何形状由一些用戶定义的参数控制。在光线追踪过程中,OpticStudio在后台通过API自动调用Lumerical RCWA,以求解光栅的电场响应。操作过程中,Lumerical的参数通过这个API显示在OpticStudio用户界面中。我们将演示用户如何从OpticStudio用户界面改变光栅的几何形状,并触发Lumerical自动计算新数据。还会演示一个简单的优化例子。演示者:Michael ChengKyle Johnson 

中继聚光镜系统设计

此文为翻译帖,原文以及附件参考:リレーコンデンサーレンズの設計例について | Zemax Community中继聚光镜系统是照明光学中的基本光学系统。 它的特点是,即使在光源亮度不均匀的情况下,也能实现均匀照明,而且没有能量损失。中继聚光镜系统具有出色的功能。 中继聚光镜光学元件使用两个透镜。第一个镜头被称为聚光镜。它的目的是收集光线,它被设计成在第二个镜头上方形成一个光源的图像。第二个镜头被称为中继镜头,其目的是将第一个镜头的图像引导到受照面。 亮度不均匀的光源是,例如,灯丝和放电管。这些光源的亮度不均匀,但光的分布是均匀的。 一个放置在离光源一定距离的聚光镜被均匀地照亮。通过用中继透镜投射均匀的表面,可以看到被照射的表面也变得均匀照亮。通过将所有入射到聚光镜上的能量转移到中继透镜中来防止能量损失。 最终的镜头数据和布局图如下所示。 最左边的镜头是光源。第一个镜头是聚光镜。第二个镜头是一个中继镜头。 右侧的一端是照明面。 光源很小,如果光源中包括反射元件,得到的光源大小为反射元件的光学尺寸,光源的出瞳即反射系统的出瞳。 中继式聚光镜系统的特点是物面与聚光镜重合。考虑一下OpticStudio中的镜头编辑器是如何组装的。 第一个平面是光阑,它被看作是光源。换句话说,光阑的位置被指定为与物体平面的负距离。与聚光镜使用的是相同的距离。 聚光镜的表面与物体平面对齐,因此可以采用优化方法来减少点斑。然而,应该注意的是,角度过大会导致低照度。 检查为该项目设计的中继式聚光镜系统的照度分布。这是因为聚光镜是圆形的,所以辐照形状也是圆形的。如果聚光镜是矩形的,那么照射形状也将是矩形的。 选择分析→扩展光源分析→几何光学图像分析。有一种复眼透镜,就是由多个上述系统拼合而成。

[网络研讨会Q&A] Zemax 和 Lumerical 工作流程第 1 部分 - 从微观到宏观的光学仿真

感谢大家长期以来对 Zemax 的关注与支持!我们将在以下时间开展本次的网络研讨会,您可以通过以下链接进行本研讨会的注册。并且,您可以在我们全新的 Zemax 社区论坛上,事先或者结束后针对本次研讨会的内容对演讲者进行提问,也请自由留言进行交流。 时间:2022年7月22日(周五)16:00-17:00 参与链接: https://v.ansys.com.cn/live/AuYDgsCG?source=Zemax 内容摘要: 复杂的光学系统往往需要跨多个空间尺度的耦合仿真技术,以实现精确的设计和公差分析。从照明系统中的纳米级发射结构中提取光,或是通过波导和自由空间组件的混合体传播光只是复杂光学系统的一些例子。光线追迹方法在波长维度的结构中往往会失效,而电磁方法对于较大尺寸的器件计算来说过于消耗算力资源。连接纳米级和宏观级光学器件的传统方法需要繁琐的手动文件转换,并且容易出错。作为仿真领域的领导者,Ansys 致力于提供解决方案以加快分析速度并缓解光学设计工作流程中的挑战。在本次网络研讨会中,我们将重点介绍 Zemax OpticStudio 和 Ansys Lumerical 之间相互联动的一些工具,帮助工程师实现从微观到宏观光学系统的仿真设计,从而有效地设计制作创新光学系统。 演示者: 林修安 | AnsysAnsys Zemax光学应用工程师,加入Zemax三年半,目前负责Zemax相关的售前与售后技术服务支持工作。 周铮 | AnsysAnsys系统事业部光学产品应用工程师,华中科技大学和巴黎十一大光电信息硕士,目前负责Ansys Lumerical的业务开发与技术咨询工作。

用OpticStudio模擬微結構薄膜產生摩爾紋 (Moiré)

摘要:本範例將會示範如何在Zemax OpticStudio模擬微結構膜薄膜產生的圖案,包含以下部分:* 背景簡介* 範例1:柱狀透鏡陣列薄膜 (Lenticular Array Sheet) 交疊製造紋路* 範例2:雙面微透鏡陣列結構塑膠片的紋路產生作者:Michael Cheng文章發布時間:February 14, 2017背景簡介隨著近代射出射出與滾輪押出技術的進步,許多產品開始可以在量產層面上,製造塑膠片或薄膜上微米級的週期性微結構。例如液晶螢幕中常見的增亮膜 (Brightness Enhancement Film,以下簡稱BEF),就是一個很好的例子。當這些微結構片 (或貼膜) 相互交疊時,若是在適當的角度下,則會產生各種條紋圖案 (Moiré)。這些條紋,根據不同的應用,有時候是必須去除的,例如當BEF與V-cut導光板交疊時,如果同方向擺置,則微小的角度差,便有可能發生螢幕亮案變化的狀況。而在另一些應用中,有時候這些圖案則是故意設計、產生以製造表面質感的。例如Rowlux® (ROWLAND公司的註冊商標) 便是一種塑膠片,利用雙面微結構陣列製造出能隨不同角度變化圖案的立體質感。本文章將用兩個不同的範例,來說明如何模擬這些效應。範例1:柱狀透鏡陣列 (Lenticular Array) 薄膜交疊製造紋路本範例中,我們模擬兩片N-BK7玻璃平板,上面各自貼上一片柱狀透鏡陣列的PMMA薄膜。然後我們把這兩片平板錯開一個角度後,建立一個遠方來的光源,照射在此結構上,最後使用Paraxial Lens與一個探測器,模擬眼睛所看到的條紋。首先結構的部分,我們使用Toroidal Lens來製作柱狀透鏡單元,然後透過Array物件把此單元複製成微陣列結構。玻璃平板則透過Rectangular Volume這個物件完成。設定如下: 注意我們給兩個Toroidal Lens都設定了 “Do Not Draw This Object” 以及 “Rays Ignore Object: Always”,這兩個設定都是經由Object Properties對話框完成的。另外值得注意的是,物件5的Tilt About Z設定為5,表示兩個結構間相差5度,稍後我們會修改這個數值,觀察不同角度的變化。此外,我們需要給物件1指定曲面部分反射光線,如下圖: 打開Shaded Mod

如何輸入量測資料到Grid Sag面

摘要:這篇文章示範了如何輸入量測資料到Zemax OpticStudio中的Grid Sag,表面起伏資料應為Z座標的sag。原文作者:永田信一さん原文發布時間:Feb 7, 2009假設我們有如下資料 表面起伏資料的定義如下。第一行,由7個數字表示。第1, 2個數字,代表X與Y方向的資料數量,資料形式為整數。第3, 4個數字,代表X與Y方向的資料間距,資料形式為浮點數。第5個數字,代表資料的單位,0表示單位是mm。第6, 7個數字,代表整體資料點的偏心量,資料形式為浮點數。第二之後的資料格式如下,z dz/dx dz/dy d2z/dxdy每行都是如上的資料,資料形式為浮點數。z代表sag值。dz/dx dz/dy代表X與Y方向的微分值。d2z/dxdy代表交叉微分值。資料最少需要5x5個點。在Grid Sag面的設定中,若指定使用Bicubic-spline內插的情況,為了使資料點之間sag的內插結果平滑,必須要輸入微分值。但是,若設定所有的微分值為0,或是該資料留白不輸入,Zemax會自訂使用有限差分法 (Finite Difference Method) 來計算微分值。資料的紀錄順序如下:1.    從的面的左上角,也就是Xmin、Ymax開始。2.    下一個輸入的資料是該點的右邊一個值 (就是X方向加一個間隔)。3.    第一行結束後,往地第二行左邊開頭繼續。4.    填滿時,最後一個數字應為Xmax、YminSag資料的基準面不只是平面,也可以是球面、圓錐曲面或是非球面。檔案的副檔名方面,若是在序列模式,應為 “.DAT”,若是在非序列模式,應為 “.GRD”。在序列模式下定義這個面時,面的型態為 “Grid Sag”。曲率半徑、圓錐係數以及非球面係數可以用來定義輸入資料的基礎面。上圖中看到的參數0,代表sag資料的內插形式,0表示Bicubic-spline,1表示線性內插。 輸入的方式,請將 .DAT 檔置於 “\Documents\Zemax\Objects\Grid Files” 資料夾中。請開啟鏡頭數據編輯器,選擇Grid Sag面,並打開面屬性對話框 (Surface Properties)。然後選取您的 .DAT檔,點選 Import,點擊 OK 輸入。資料輸入後,如果想要檢視輸入結果的話,請選擇 “Ribon工具列 > An

波前 (OPD) 怎麼算的

波前的計算當我們說波前時,事實上通常是指波前 “差”,或是光程差,指的是同一件事。OpticStudio預設使用出瞳作為波前差的計算參考。因此,當我們要計算一條光線的OPD時,此光線會從物面出發後一路追跡穿過光學系統,最終到達像面後,在循原方向後退追跡到 “參考球面”。此參考球面的球心是主光線與像面的交點,半徑是主光線與像面交點到主光線與出瞳面的焦點。然後我們就計算這條光線的總光程,並扣去主光線的光程 (因此主光線的光程差永遠為零,因為他本身就是零的參考點)。要驗證這個敘述,讓我們打開這個內建範例: \Documents\Zemax\Samples\Sequential\Objectives\Double Gauss 28 degree field.ZMX。讓我們在像面之前新增兩個面,第一個面的厚度給予設定求解 = Pupil Position,第二個面給予設定求解 = Pickup,設定為前一個面的厚度乘以-1。並指定第二個面的Radius為求解Pickup,一樣是前一個面的厚度乘以-1。第二個面就是我們所說的參考球面。目前為止設定如下:  然後我們在Merit Function中使用OPTH這個操作數驗證視場1、波長編號2,經過光瞳Py = -1位置的光線以及主光線,兩條光線在參考球面上的光程差。注意我除以波長編號2的波長 (wavelength),因此單位會是波長 (waves)。下面可以看到我們算出來是0.272387 (須乘以一千倍)。然後我們打開OPD Fan並設定如下圖,可以看到Py=-1的時候,波前差確實是-0.272387。現在讓我們來驗證看看離軸的視場,例如說我們想看最大的視場3。首先我們清空評價函數編輯器,然後先暫時把出瞳面的Radius設回無限大。輸入以下資料到評價函數中,目的是計算主光線在出瞳面上的位置、角度以及到像面所經過的光程。記住這三個數字:* Chief ray 在出瞳上的位置是1.651577781670081* Chief ray在出瞳空間中的角度是11.96474523412040* Chief ray從出瞳到像面的距離是110.4592649799319 接下來我們使用Tilt/Decenter工具來移動並傾斜出瞳,如下。然後可以看到系統自動加入兩個Coordinate Break以及相關設定,如下。最後在確保把Chief的

显微镜照明光学系统设计案例分享

显微镜照明光学系统设计简介以下介绍显微镜的照明光学系统设计。显微镜的规格如下所示:放大倍率:10倍NA:0.2(CCD对角的1/2)视场数:8无限远校正系统(infinity corrected ): 12mm成像镜头焦点距离:200mm工作距离:45mm使用的光源:2mm NA=0.25光学系统的设计分为2类:成像系统 照明系统这里介绍的是照明系统的设计。暗场反射式照明用的非球面聚光镜设计作为暗场照明,为设置上一例中显微镜(成像系统)设计中的物镜,需要使用中心半径为8.5mm的中心遮蔽。最终的镜头数据以及布局图如下所示。在STOP表面上设置中心遮挡半径为8.5mm的孔径。这一部分是对暗场照明物镜的预设。在优化向导中,输入0.57遮蔽因子。表示中心遮蔽比例。本例中设置为中心遮蔽半径为8.5mm / 镜头半径15mm = 0.57 。所使用的评价函数如下所示。第1行 _  EFLY焦点距离设置为20mm。※与显微镜(成像系统)设计的物镜具有相同的焦距。第2行 _  REAB对于像面,指定主光线垂直入射。 对这个光学系统的照度分布进行模拟。在序列模式中可以进行简单的照度分布模拟。选择 分析 >扩展光源分析>几何图像模拟由于现在视场数据的定义是角度,视场大小的单位也是角度。文件选择“CIRCLE”,定义直径为4 ° 面光源。由于指定像面的大小为2,模拟结果表示直径为2mm的区域。结果显示选择为“Cross X”,以显示照度分布的截面图。进行分析之后的结果如下所示。半径0.4mm的范围内可读取到几乎一致的明亮度。在这里,将显微镜(成像系统)和显微镜(照明系统)设计的内容设置在一个文件内。成为显微镜的光学系统的设计案例。另外,该数据通过在多重结构中使用,可以根据结构在明场和暗场照明中进行切换。最终的镜头数据以及布局图如下所示。所使用的多重结构如下所示。在序列模式中使用多重结构。多个光学系统可同时进行定义。多重结结构1是明场照明的设定。使用显微镜(成像系统)设计的物镜数据。镜头数据编辑器中的数据如下所示。多重结构2是暗场照明的设定。使用的是显微镜(照明系统)设计的聚光镜数据。因此明场镜头数据被抑制。对该光学系统进行照度分布的模拟。选择分析 > 扩展光源分析 > 几何图像分析。明场照明(config1)中的照度分布如下所示。在0.64×0.48mm范围内可

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