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タイトル：Zemax OpticStudioとLumerical RCWAの動的連携によるAR導波路の設計と最適化

日時：2022 年 10 月 19 日（水）14:00-14:35 

参加リンク：https://attendee.gotowebinar.com/register/8863856349634544141?source=community

プレゼンタ：

アンシス・ジャパン株式会社 シニアアプリケーションエンジニア 蕭　逸華（シャオ　イーファ）

アブストラクト：AR（Augmented Reality）デバイスの市場はここ数年成長し、そのスピードはますます加速しています。その中で、回折型導波路は最も重要な設計の一つとなっています。本オンラインセミナーでは、導波路の設計と最適化を行うワークフローソリューションを紹介します。このワークフローでは、まず、1次元または2次元のグレーティングをLumericalで設計、解析します。そのグレーティングは、いくつかの定義されたパラメータによって形状が制御されるパラメータ化することができます。光線追跡を行う際に、OpticStudioは自動的にLumerical RCWAをバックグラウンドで呼び出し、グレーティングの電場を解くためのAPIを提供します。Lumericalのパラメータは、このAPIを通じてOpticStudioのUIに表示されます。OpticStudio UIからグレーティングの形状を変更し、Lumericalを実行として新しいデータを自動的に計算する方法を実演します。また、簡単な最適化の例も実演します。