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Ansys Zemax OpticStudio 2022 R2 版本說明


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2022 R2 版本說明

2022年7月7日

 

 

 

 

 

繁體中文:

 

1 歡迎使用ANSYS ZEMAX OPTICSTUDIO


 

1.1 設置系統

OpticStudio直觀的使用者介面包括易於學習的工具和嚮導,能夠有效模擬和設計任何光學系統,從由傳統球面透鏡組成的系統到包含最複雜的自由曲面和非旋轉對稱元件的系統。使用唯一一款可以模擬從成像光學到照明,包括由表面浮雕和體全像光柵組成的繞射系統的光學設計軟體。

 

1.2 評估系統性能

OpticStudio囊括了一系列的光學工具,用於分析系統的性能。除了經典的性能分析功能外,OpticStudio還提供全視場像差分析以改善自由曲面設計,雜散光分析以研究鬼影和雜光,對比度分析以優化MTF,以及圖像模擬用於生成貼近實際的模擬圖。

 

1.3 優化系統滿足規格

最新的優化工具可用於根據使用者定義的約束和設計目標自動改善光學設計的性能。它可以通過消除設計反覆運算來節省時間。利用我們全新的對比度優化,優化MTF的速度可提高10倍--它消除了原先工作流中固有的多個設計和測試步驟。

 

1.4 公差模擬保證可製造性

多年來,OpticStudio中的蒙特卡洛公差分析一直是模擬設計在現實世界中的表現的黃金標準。與其他任何光學軟體相比,更多的光學研究論文依賴 OpticStudio 來準確模擬他們的設計。有了OpticStudio,光學工程師確信他們的系統將滿足客戶的實際性能要求。此外,利用快速良率,您可以在整個設計過程中動態地確定公差將如何影響實際系統的性能。

 

​​​​​​​1.5 OPTICSTUDIO的靈活性

通過ZOS-API,您可以創建獨立的應用程式,建立自己的分析,並使用C#、C++、MATLAB、Mathematica和Python在外部控制OpticStudio。Zemax程式設計語言(ZPL)使您能夠編寫自己的宏來自動執行重複的過程。自訂DLLs允許創建任何表面、物件、光源和散射。

 

​​​​​​​1.6 從FEA資料中快速準確地獲得有限元素分析結果(限企業版)

利用Ansys Zemax OpticStudio企業版中的結構、熱的分析和結果(STAR)功能,分析結構和熱對光學設計的影響。該功能擴展了OpticStudio的功能,包括基於有限元素分析(FEA)資料集的結構、熱和光學性能(STOP)分析。STOP和OpticStudio設計流程融合,並優化到一個集成的工作流程中,減少人為錯誤和重新設計所浪費的時間。

 

2 工具、功能和性能


2.1 授權工具 (所有版本)

設置並管理Ansys Zemax授權

 

首次OpticStudio,如果沒有找到,將自打開 "授權工具"。否,可在 "説明 "選項卡的 "資訊 "部分找到 "授權工具 "

通過授權工具,您可以對安裝在您電腦上的本地許可證或網路許可證伺服器進行設定。您還可以選擇在啟動OpticStudio時首先使用專業版、旗艦版或企業版許可證。一旦您對設定感到滿意,請按一下 "確定 "並重新啟動OpticStudio以使用這些更改。

 

如需更多資訊或説明,請點擊授權工具中的 "授權説明 "按鈕。這將使你進入Zemax技術支援網站,瞭解更多資訊。你也可以通過以下連結直接訪問這些資源。

 請注意:Ansys Zemax OpticStudio只適用於Ansys授權。如果您試圖訪問Zemax授權,即L1XXXXX格式的許可證或任何USB授權,您將需要安裝Zemax版本的OpticStudio。

 

 

 

 

 

 

 

简体中文:

1 欢迎使用ANSYS ZEMAX OPTICSTUDIO


 

1.1 设置系统

OpticStudio的直观用户界面包括易于学习的工具和向导,能够有效模拟和设计任何光学系统,从由传统球面透镜组成的系统到包含最复杂的自由曲面和非旋转对称组件的系统。使用唯一一款可以模拟从成像光学到照明,包括由表面浮雕和体全息光栅组成的衍射系统的光学设计软件。

 

1.2 评估系统性能

OpticStudio囊括了一系列的光学工具,用于分析系统的性能。除了经典的性能分析功能外,OpticStudio还提供全视场像差分析以改善自由曲面设计,杂散光分析以研究鬼影和杂光,对比度分析以优化MTF,以及图像模拟用于生成贴近实际的仿真图。

 

1.3 优化系统满足规格

最新的优化工具可用于根据用户定义的约束和设计目标自动改善光学设计的性能。它可以通过消除设计迭代来节省时间。利用我们全新的对比度优化,优化MTF的速度可提高10倍--它取消了原先工作流中固有的多个设计和测试步骤。

 

​​​​​​​1.4 公差仿真保证可制造性

多年来,OpticStudio中的蒙特卡洛公差分析一直是模拟设计在现实世界中的表现的黄金标准。与其他任何光学软件相比,使用OpticStudio来准确模拟他们的设计的文章更多。有了OpticStudio,光学工程师确信他们的系统将满足客户的实际性能要求。此外,利用快速良率,您可以在整个设计过程中动态地确定公差将如何影响实际系统的性能。

 

​​​​​​​1.5 OpticStudio的灵活性

通过ZOS-API,您可以创建独立的应用程序,建立自己的分析,并使用C#、C++、MATLAB、Mathematica和Python在外部控制OpticStudio。Zemax编程语言(ZPL)使您能够编写自己的宏,自动化重复的过程。自定义DLLs允许创建任何表面、对象、光源和散射。

 

​​​​​​​1.6 从FEA数据中快速准确地获得有限元分析结果(限企业版)

利用Ansys Zemax OpticStudio企业版中的结构、热的分析和结果(STAR)功能,分析结构和热对光学设计的影响。该功能扩展了OpticStudio的功能,包括基于有限元分析(FEA)数据集的结构、热和光学性能(STOP)分析。STOP和OpticStudio设计流程融合,并优化到一个集成的工作流程,减少人为错误和重新设计所浪费的时间。

 

2 工具、功能和性能


2.1 授权工具 (所有版本)

设置并管理Ansys Zemax授权

首次启OpticStudio,如果没有找到,将自打开 "授权工具"。否,可在 "帮助 "选项卡的 "信息 "部分找到 "授权工具 "

通过授权工具,您可以对安装在您机器上的本地授权或网络授权服务器的访问进行配置。您还可以选择在启动OpticStudio时首先使用专业版、旗舰版或企业版许可证。一旦您对配置感到满意,请单击 "确定 "并重新启动OpticStudio以应用这些更改。

 

如需更多信息或帮助,请点击授权工具中的 "授权帮助 "按钮。这将使你进入Zemax技术支持网站,了解更多信息。你也可以通过以下链接直接访问这些资源。

 请注意:Ansys Zemax OpticStudio只适用于Ansys授权。如果您试图访问Zemax授权,即L1XXXXX格式的许可证或任何USB授权,您将需要安装Zemax版本的OpticStudio。

 

 

  


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