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使用全像元件建立擴瞳光波導 (Exit Pupil Expansion)

在下面的文章中,我們介紹了如何建立一個使用表面浮雕光柵(SRG)的EPE裝置。然而,這文章的內容其實對全像光柵並不適用。How to simulate exit pupil expander (EPE) with diffractive optics for augmented reality (AR) system in OpticStudio: part 1OpticStudio目前內建使用的Kogelnik模型不能用於EPE波導系統。下面我們將解釋原因並提供一個變通的辦法,以及對應使用的DLL。注意這裡介紹的方法是基於一些假設的,因為本身一定會存在一些不確定性。下面會一併解釋。在Kogelnik的方法中,它假設全像底片的材料本身及其環境的折射率是相同的。即使在全像條紋形成後,平均折射率仍是相同的。 但問題就在這裡,實際上,我們的全像材料是塗在一個基板上的,基本有自己的折射率,而材料的另一個可能是另一個基本或直接接觸到空氣。總之折射率不可能一樣。 在這種狀況下,我們可以想像,光線在進入全像材料時,會先需要考慮折射,進入到全像區域,接著在全像區域內發生繞射,然後這些光線離開時,又要再經歷一次折射。注意這個模型主要是幫助理解,實際發生的狀況是光在這邊有複雜的干涉行為。但是這個模型大致上正確,很適合拿來解釋。依照剛剛說的方式運作,我們很快可以發現,在一些條件下,光線是可以被TIR而無法離開全像區域的。問題就是這個現象在Kogelnik方法中是沒有定義的,我們沒有一個非常理論化的方法去計算此時的繞射效率應該如何。 注意不只是反射式全像,穿透式也會發生這個問題。 另外不只是零階光,一階光也是會有這個問題。在附件的檔案中,我們用了兩個假設去加強Kogelnik方法的適用性。這兩個假設為如果一階繞射光不存在,則所有能量被零階光帶走。 如果零階光遇到TIR,那就走反射方向。模擬的結果如下:打開ZAR後,相應的DLL會被自動解壓縮到對應的資料夾。注意這個DLL有一些限制,如下:他是基於假設的,所以理論上有一些不確定性。 必須訂閱版授權才能使用。 這個DLL只能用在OpticStudio 21 或 22 版。如果有更多關於全像模擬的問題可以參考下面的文章。Simulating diffraction efficiency of a volume holographic gratin

用OpticStudio模擬微結構薄膜產生摩爾紋 (Moiré)

摘要:本範例將會示範如何在Zemax OpticStudio模擬微結構膜薄膜產生的圖案,包含以下部分:* 背景簡介* 範例1:柱狀透鏡陣列薄膜 (Lenticular Array Sheet) 交疊製造紋路* 範例2:雙面微透鏡陣列結構塑膠片的紋路產生作者:Michael Cheng文章發布時間:February 14, 2017背景簡介隨著近代射出射出與滾輪押出技術的進步,許多產品開始可以在量產層面上,製造塑膠片或薄膜上微米級的週期性微結構。例如液晶螢幕中常見的增亮膜 (Brightness Enhancement Film,以下簡稱BEF),就是一個很好的例子。當這些微結構片 (或貼膜) 相互交疊時,若是在適當的角度下,則會產生各種條紋圖案 (Moiré)。這些條紋,根據不同的應用,有時候是必須去除的,例如當BEF與V-cut導光板交疊時,如果同方向擺置,則微小的角度差,便有可能發生螢幕亮案變化的狀況。而在另一些應用中,有時候這些圖案則是故意設計、產生以製造表面質感的。例如Rowlux® (ROWLAND公司的註冊商標) 便是一種塑膠片,利用雙面微結構陣列製造出能隨不同角度變化圖案的立體質感。本文章將用兩個不同的範例,來說明如何模擬這些效應。範例1:柱狀透鏡陣列 (Lenticular Array) 薄膜交疊製造紋路本範例中,我們模擬兩片N-BK7玻璃平板,上面各自貼上一片柱狀透鏡陣列的PMMA薄膜。然後我們把這兩片平板錯開一個角度後,建立一個遠方來的光源,照射在此結構上,最後使用Paraxial Lens與一個探測器,模擬眼睛所看到的條紋。首先結構的部分,我們使用Toroidal Lens來製作柱狀透鏡單元,然後透過Array物件把此單元複製成微陣列結構。玻璃平板則透過Rectangular Volume這個物件完成。設定如下: 注意我們給兩個Toroidal Lens都設定了 “Do Not Draw This Object” 以及 “Rays Ignore Object: Always”,這兩個設定都是經由Object Properties對話框完成的。另外值得注意的是,物件5的Tilt About Z設定為5,表示兩個結構間相差5度,稍後我們會修改這個數值,觀察不同角度的變化。此外,我們需要給物件1指定曲面部分反射光線,如下圖: 打開Shaded Mod

Distortion Focal Length的定義 (ZPL範例)

本文章介紹了:    Field Curvature/Distortion分析的文字區塊中Distortion Focal Length的定義    使用Single Ray Trace驗證    介紹用ZPL中的PLOT、RAYTRACE指令    用ZPL簡單的驗證Distortion Focal Length的定義文章發布時間:September 23, 2015 系統分析功能中的Distortion Focal Length當我們在OpticStudio中打開Field Curvature/Distortion分析功能時,會在文字區塊中看到這個參數,有些使用者會好奇這是什麼參數,為什麼他與狀態列上的有效焦距EFFL不同。請開啟範例檔:\Zemax\Samples\Sequential\Objectives\Double Gauss 28 degree field.zmx請開啟Analyze Ribbon > Aberration > Field Curvature and Distortion,並記得在Settings中設定使用主波長2,也就是0.587 um。(這是為了與之後我們撰寫ZPL時使用相同的波長驗證)點擊一下視窗下方的Text標籤,並找到如下的Distortion focal length參數。 可以很輕易的發現他與整個主視窗下方的狀態列上的EFFL數值不同。  什麼是Distortion Focal Length要瞭解Distortion Focal Length,首先我們先查看Help檔案。 根據上面反白的文字,系統會先追跡小視場,然後其他較大視場的入射光線再根據Yref=f*TAN(theta)放大。其中f就是在小視場下計算的,我們可以用追跡工具Single Ray Trace簡單的驗證: (請注意波長為2)由於此範例最大視場為14度,因此Hy = 0.0001代表0.0014度,Px = Py = 0代表chief ray,可看到第7個面的像高為2.4271401744E-003。我們把公式轉換為f = Yref / TAN(theta) = 2.4271401744E-003 / TAN(0.0014 degree) = 99.3320630可發現與Field Curvature/Distortion分析功能文字區塊

Ansys Zemax STAR与Ansys Mechanical/Fluent的跨界合作

 欢迎大家的到来~🥂😊之前我们已经认识了STAR模块(Zemax STAR模块的自白---【我是一个分析温度、形变对光学系统影响的工具】 | Zemax Community),对于整个工作流来讲,OpticStudio,STAR模块与其他Ansys工具的集成可以使工作流程得以简化且保证了精度。对STAR感兴趣的盆友可以点击如下链接加入STAR User Group,相关STAR的信息都会更新在其中STAR User Community我们以高能激光的案例再来说明下这个工作流:光学系统的设计(分析、优化、公差分析等):Ansys Zemax OpticStudio在OpticStudio中完成光学设计后,对于光机设计,可参与构建 CAD 和其他机械组件的Ansys软件:Zemax OpticsBuilder,SpaceClaim等,具体选择取决于具体情况。导出设计以进行 FEA 分析。将OpticStudio和CAD的组件导入Ansys Mechanical进行热或应力条件下的有限元仿真分析(初始条件也可以导入)。 定义网格并在感兴趣区域使用更精细的网格应用网格控制,以获得更好的保真度,而不太重要的区域使用稀疏网格,从而加快处理速度。OpticStudio STAR模块具有的一大优势是可以应用于光学元件的网格控制,STAR能够导入非均匀数据。    接下来,我们使用Ansys Mechanical进行瞬态分析,可同时查看机械和光学组件。绘制单个或多个组件的图表,如下图。  当然,也可以结合Ansys Fluent做相关的流体分析:  在运行包括结构,热,CFD等在内的研究之后,通过STAR模块将其完整地带到OpticStudio。要尽可能轻松地执行此操作,请尝试使用Ansys WorkBench的ACT文件扩展,它允许以STAR要求的格式导出数据。从零件树或屏幕中选择光学元件,单击鼠标右键,然后从下拉列表中选择导出到 STAR。  将相应数据利用STAR导入 OpticStudio 中 ,并进行相关分析: 

[网络研讨会] Zemax集成化光学系统模拟整体解决方案 – 高能激光系统示例

感谢大家对 Zemax 的关注与支持!我们将在以下时间开展本次的网络研讨会,您可以通过以下链接进行本研讨会的注册。并且,您可以在我们全新的 Zemax 社区论坛上,事先或者结束后针对本次研讨会的内容对演讲者进行提问,也请自由留言进行交流。  时间:2021年9月15日(周三)14:00-15:00 参与链接:https://register.gotowebinar.com/register/7595644445225320718 内容摘要: 在现实的光学系统中,热效应和结构形变对于光学系统性能有着很大的影响。在这次的研讨会上,以高能激光光学系统为例,介绍使用 OpticStudio 设计光学系统、使用 OpticsBuilder 进行机械元件建模,使用 STAR 模块结合 FEA 分析数据应用于光学系统进行综合性能评价,其中将包含以实际文件为基础的演示操作。需要进行热效应和结构形变分析的复杂光学系统性能整体分析,通常都是光学设计与分析领域的痛点,本次研讨会将为您带来全新的解决方案 - 基于 OpticStudio 的 STAR 模块。该模块于 2021 年 5 月载入至 OpticStudio 21.2 版本中,可以将分析得到的 FEA 数据应用至光学系统中的各元件表面上,拟合后对于系统进行整体的光学性能分析,无缝完成所有所需操作。 本次研讨会已结束,录制视频获取地址:https://www.zemax.net.cn/blogs/webinars/high-powered-lasers 演示者: 光学工程师 胡皓胜,Zemax 中国

Fizeau干涉仪模拟实例

本文为翻译帖,作者是Kensuke Hiraka。原文链接(含附件):フィゾー干渉計のシミュレーションについて | Zemax Community本节介绍一个Fizeau干涉仪的模拟实例。干涉仪有多种类型,这里介绍的Fizeau干涉仪是一种干涉仪,广泛用于测量光学元件和透射波面的表面精度。 这里我们介绍一个使用Fizeau干涉仪来测量透镜的透射波面变形的例子。以下是被测试的系统。 使用一个有效直径为50毫米、焦距为578毫米的平凸透镜。为了表示不对称的像差,用Zernike条纹相位面来增加像散和慧差像差。 还使用了-0.7的圆锥系数。 平凸透镜会导致大的球差。下图是镜头数据编辑器。 背面的焦点是571.982毫米。以下是光路图。可以使用分析->波前图对波前进行分析。下图展示的是波前图的分析结果。波前PV值 0.3821λ、RMS 0.0881λ。接下来,对Fizeau干涉仪进行建模。 要建立一个含有 "平面光源 "的Fizeau干涉仪模型(即发射准直光),选择 "无焦像空间 "复选框并进入无焦模式,如下图所示。在对 "球面原型 "进行建模时(在这里发出会聚光),请将镜头置于正常焦距模式。镜头数据编辑器如下图所示。 在测试透镜后面放一个凸面镜反射光线,这样光线就会重新进入测试透镜。 应注意以下两点:1. 从测试镜头到凸面镜的距离应该是测试镜头的后焦点(571.982毫米)减去凸面镜的曲率半径(本例中为300毫米)。2.尽可能多地拾取数据,以确保在待测数据发生变化时,回程的数据相应变化。 各种系数也被拾取。模型完成后的光路图如下所示。检查波前像差图。可以看出,波前像差为0.7642λpv和0.1762λRMS,是单透镜的两倍。 也可以看出,不对称像差没有问题(因为往返的光通量通过被测镜头上的同一个地方)。因此,Fizeau干涉仪输出值的1/2是被测透镜本身的波前像差。此外还可以使用下图的干涉图分析功能进行波前分析:放大率被设置为1。 帮助文件指出,对于双通道光学系统,放大率应设置为2,但这是在双通道光学系统被建模为简化的单通道时。 如果像本例中那样对整个双通道进行建模,则应将放大率设为1。

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